发明名称 |
用于等离子体加工设备的电极板和清除工艺沉积物的方法 |
摘要 |
本发明公开了一种用于等离子体加工设备的电极板和清除工艺沉积物的方法,涉及等离子体加工技术领域,为易于清除附着于电极板板面的沉积物,避免使用干法清洗造成的成本上升及可能造成温室效应等副作用而发明。本发明的电极板由导电材料制成,所述电极板的一侧板面为凸起和凹槽形成的曲面。本发明的清除沉积物的方法,包括:采用高频等离子体轰击一侧板面为凸起和凹槽形成的曲面的上电极。本发明可用于等离子体加工工艺中。 |
申请公布号 |
CN102098863A |
申请公布日期 |
2011.06.15 |
申请号 |
CN200910242684.5 |
申请日期 |
2009.12.14 |
申请人 |
北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
发明人 |
白志民 |
分类号 |
H05H1/46(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I;C23C16/513(2006.01)I |
主分类号 |
H05H1/46(2006.01)I |
代理机构 |
北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 |
代理人 |
申健 |
主权项 |
一种用于等离子体加工设备的电极板,由导电材料制成,其特征在于,所述电极板的一侧板面为凸起和凹槽形成的曲面。 |
地址 |
100026 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5楼 |