| 发明名称 | 等离子体放电处理装置 | ||
| 摘要 | 一种等离子体放电处理装置，通过在大气压或大气压附近的压力下，在对置的两种电极之间，以超过10kHz的高频电压供给1W/cm2以上的电力而放电，使反应性气体成为等离子态，通过在上述等离子态的反应性气体中暴露衬底，在上述衬底上形成薄膜，其特征在于：上述衬底是长形膜，上述对置电极中的至少一个是与上述长形膜接触，且沿上述长形膜的传送方向旋转的辊电极；至少与上述辊电极对置的电极，是导电性母材被介电体覆盖的介电体覆盖电极；至少上述辊电极的与上述衬底相接触的面的表面粗糙度Rmax为10μm以下。 | ||
| 申请公布号 | CN101333654B | 申请公布日期 | 2011.06.15 |
| 申请号 | CN200810098597.2 | 申请日期 | 2001.12.06 |
| 申请人 | 柯尼卡美能达控股株式会社 | 发明人 | 福田和浩;近藤庆和;村上隆;岩丸俊一;村松由海;辻稔夫 |
| 分类号 | C23C16/505(2006.01)I;H05H1/48(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/505(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 郭放 |
| 主权项 | 一种等离子体放电处理装置，通过在20kPa～110kPa的压力下，在对置的两种电极之间，以超过10kHz的高频电压供给1W/cm2以上的电力而放电，使反应性气体成为等离子态，通过在上述等离子态的反应性气体中暴露衬底，在上述衬底上形成薄膜，其特征在于：上述衬底是长形膜，上述对置电极中的至少一个是与上述长形膜接触，且沿上述长形膜的传送方向旋转的辊电极；至少与上述辊电极对置的电极，是导电性母材被介电体覆盖的介电体覆盖电极；至少上述辊电极的与上述衬底相接触的面的表面粗糙度Rmax为10μm以下。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||