发明名称 |
气体控温的静电卡盘及其控制基片温度的方法 |
摘要 |
本发明公开了一种气体控温的静电卡盘及其控制基片温度的方法,该静电卡盘设有多个上下相通的通孔,多个通孔中至少一个通孔的下端连接有供气通道;一个通孔的下端连接有回气通道。供气通道连接有气体温度控制装置。工艺过程中,可以通过供气通道通入需要温度的气体,并由回气通道流回,在静电卡盘与基片之间形成循环,直接对基片的温度进行控制。控温速度快、能量损失小。 |
申请公布号 |
CN101425472B |
申请公布日期 |
2011.06.15 |
申请号 |
CN200710176651.6 |
申请日期 |
2007.10.31 |
申请人 |
北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
发明人 |
王娜 |
分类号 |
H01L21/683(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/683(2006.01)I |
代理机构 |
北京凯特来知识产权代理有限公司 11260 |
代理人 |
郑立明;王连军 |
主权项 |
一种气体控温的静电卡盘,其特征在于,该静电卡盘设有多个上下相通的通孔,所述多个通孔中至少一个通孔的下端连接有供气通道;至少一个通孔的下端连接有回气通道;所述的供气通道连接有气体温度控制装置,气体温度控制装置用于对气体的温度进行控制,使气体达到需要的温度,所述的回气通道与所述气体温度控制装置连接,所述供气通道与回气通道形成一个循环回路。 |
地址 |
100016 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5座2楼 |