| 发明名称 | 一种用于钽阻挡抛光的化学机械抛光液 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种用于钽阻挡抛光的化学机械抛光液，其含有研磨颗粒，有机酸，聚丙烯酸类，金属缓蚀剂，季胺碱，氧化剂和水。本发明的化学机械抛光液满足了阻挡层抛光工艺阶段的要求，提高了阻挡层(Ta或TaN)的去除速率，满足了阻挡层抛光过程中绝缘层材料和金属材料抛光速率选择比的要求，可防止金属抛光过程中产生的局部和整体腐蚀，并减少了抛光后晶圆表面缺陷和污染物。 | ||
| 申请公布号 | CN102093817A | 申请公布日期 | 2011.06.15 |
| 申请号 | CN200910200316.4 | 申请日期 | 2009.12.11 |
| 申请人 | 安集微电子(上海)有限公司 | 发明人 | 姚颖;宋伟红;荆建芬;孙展龙 |
| 分类号 | C09G1/02(2006.01)I | 主分类号 | C09G1/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人 | 李佳铭 |
| 主权项 | 一种用于钽阻挡抛光的化学机械抛光液，含有研磨颗粒，有机酸，聚丙烯酸类，金属缓蚀剂，季胺碱，氧化剂和水。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室 | ||