发明名称 一种制备平面缩放倍率超分辨成像透镜的方法
摘要 一种制备平面缩放倍率超分辨成像透镜的方法,包括:在基片上制备圆形或正方形或长方形的平底凹槽;在基片上沉积一层银膜层,再在银膜层上涂布一层可固化的溶胶层,其中溶胶层在表面张力的作用下会在凹槽位置形成弧面,经加热或紫外光照射后溶胶层固化;依此类推,在基片上交替沉积银膜层和涂布、固化溶胶层,在凹槽位置得到由多层银膜层和溶胶层交替组成的多层弧面膜层,直到将凹槽填平,就得到了物面和像面均为平面的缩放倍率超分辨成像透镜。该平面缩放倍率超分辨成像透镜能够二维缩小或放大成像,可应用于超分辨缩小光刻或放大成像。这解决了当前平面缩放倍率超分辨成像透镜难以制作的难题,在成像和光刻领域拥有巨大的应用潜力。
申请公布号 CN102096123A 申请公布日期 2011.06.15
申请号 CN201010617734.6 申请日期 2010.12.22
申请人 中国科学院光电技术研究所 发明人 刘凯鹏;罗先刚;王长涛;刘玲;冯沁;赖之安;杨欢
分类号 G02B3/00(2006.01)I;G02B1/10(2006.01)I 主分类号 G02B3/00(2006.01)I
代理机构 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 代理人 卢纪
主权项 一种制备平面缩放倍率超分辨成像透镜的方法,其特征在于步骤如下:(1)在基片上制备圆形或正方形或长方形的凹槽;所述基片材料为石英、玻璃、氮化硅、硅、锗或有机聚合材料;所述凹槽垂直于基片表面方向的形状为圆形、正方形或长方形,凹槽的底面为平面且与基片的表面平行,凹槽的直径或边长为200nm至10000nm,凹槽的深度为50nm至4000nm;(2)在步骤1制备成的凹槽上沉积一层银膜层,所述银膜层的厚度为2nm至100nm;(3)采用旋涂的方法在沉积了一层银膜层的凹槽里涂布一层可固化的溶胶层,溶胶层在表面张力的作用下会在凹槽里形成弧面,经加热或紫外光照射处理后溶胶层固化;所述可固化的溶胶层的厚度为2nm至100nm;(4)在所述凹槽里交替沉积银膜层和涂布、固化溶胶层,得到银层和溶胶层交替组成的多层弧面膜层,直到将凹槽填平,即制备得到两面均为平面的缩放倍率超分辨成像透镜。
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