发明名称 |
AlGaN块状晶体制造方法和AlGaN衬底制造方法 |
摘要 |
本发明提供一种用于制造厚、高品质的AlGaN块状晶体的方法。本发明还提供了一种用于制造高品质的AlGaN衬底的方法。所述制造AlGaN块状晶体的方法包括如下步骤:首先,准备由AlaGa(1-a)N(0<a≤1)制成的底部衬底。接着,在所述底部衬底上生长由AlbGa(1-b)N(0<b<1)制成的具有主面的块状晶体。所述底部衬底的Al组成比(a)大于所述块状晶体的Al组成比(b)。所述制造AlGaN衬底的方法包括从上述块状晶体中切下一个以上由AlbGa(1-b)N(0<b<1)制成的衬底的步骤。 |
申请公布号 |
CN102099511A |
申请公布日期 |
2011.06.15 |
申请号 |
CN200980128007.9 |
申请日期 |
2009.07.16 |
申请人 |
住友电气工业株式会社 |
发明人 |
宫永伦正;水原奈保;谷崎圭祐;佐藤一成;中幡英章 |
分类号 |
C30B29/38(2006.01)I;H01L21/205(2006.01)I |
主分类号 |
C30B29/38(2006.01)I |
代理机构 |
中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 |
代理人 |
陈海涛;樊卫民 |
主权项 |
一种AlGaN块状晶体制造方法,所述方法包括:准备由AlaGa(1‑a)N(0<a≤1)构成的底部衬底的步骤;以及在所述底部衬底上生长具有主面的由AlbGa(1‑b)N(0<b<1)构成的块状晶体的步骤,其中所述底部衬底中Al的组成比a大于所述块状晶体中Al的组成比b。 |
地址 |
日本大阪府 |