光刻设备和表面清洁方法

摘要

本发明公开了一种光刻设备和一种表面清洁方法。在所述光刻设备中，液体限制结构包括至少两个开口，用于供给和抽取液体至所述结构下面的间隙。开口之间的流动方向可以切换。液体可以被供给至适于双重流动的开口的径向外侧的间隙。用以分别供给液体至液体限制结构和从液体限制结构抽取液体的供给和抽取线路具有抵抗有机液体腐蚀的内表面。腐蚀性的清洁流体可以用于清洁光致抗蚀剂的污染。

主权项

一种光刻设备，包括：流体处理系统，配置成将浸没液体限制到投影系统的最终元件与衬底和/或台之间的空间，所述流体处理系统包括至少两个开口，所述至少两个开口配置成供给液体到流体处理系统与所述衬底和/或所述台之间的间隙并从所述间隙抽取液体；和控制器，配置成控制通过所述至少两个开口的液体流动的方向，使得在清洁操作期间通过所述至少两个开口中的至少两个开口的液体流动的方向是相反的。