发明名称 |
压电薄膜元件及压电薄膜装置 |
摘要 |
本发明涉及一种压电薄膜元件及压电薄膜装置。该压电薄膜元件为在基板上具有以组成式(K1-xNax)yNbO3表示的碱金属铌氧化物系钙钛矿结构的压电薄膜的压电薄膜元件,用(K1-xNax)yNbO3表示的上述压电薄膜的组成比x、y处于0.4≤x≤0.7且0.7≤y≤0.94的范围内。 |
申请公布号 |
CN102097582A |
申请公布日期 |
2011.06.15 |
申请号 |
CN201010556495.8 |
申请日期 |
2010.11.18 |
申请人 |
日立电线株式会社 |
发明人 |
柴田宪治;末永和史;野本明;渡边和俊 |
分类号 |
H01L41/187(2006.01)I;H01L41/08(2006.01)I;C04B35/495(2006.01)I |
主分类号 |
H01L41/187(2006.01)I |
代理机构 |
北京银龙知识产权代理有限公司 11243 |
代理人 |
钟晶 |
主权项 |
压电薄膜元件,其特征在于,该压电薄膜元件是基板上具有以组成式(K1‑xNax)yNbO3表示的碱金属铌氧化物系钙钛矿结构的压电薄膜的压电薄膜元件,以(K1‑xNax)yNbO3表示的所述压电薄膜的组成比x、y处于0.4≤x≤0.7且0.7≤y≤0.94的范围。 |
地址 |
日本东京都 |