| 发明名称 | 用于分析激光光束的光束剖面的装置 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种用于分析激光光束(3)的光束剖面的装置(6)，包括：承载板(7)；多个第一温敏测量元件(9，9a至9g)、尤其是二极管，这些第一温敏测量元件被设置在该承载板(7)的第一面(7a)上的优选呈矩阵形式布置(8)的多个测量点上；以及多个第二温敏测量元件(11，11a至11g)、尤其是二极管，这些第二温敏测量元件被设置在承载板(7)的第二面(7b)上的一另外的优选为矩阵形式的布置(10)中，其中，这些第一测量元件(9a至9g)中的每一个分别与这些第二测量元件(11a至11g)中的一个对置地设置并且与其通过延伸穿过该承载板(7)的印制导线(12a至12g，13a至13g)热耦合。此外，本发明涉及一个具有一个这样的装置(6)的激光加工机以及一个用于分析激光光束(3)的光束剖面的所属方法。 | ||
| 申请公布号 | CN102099146A | 申请公布日期 | 2011.06.15 |
| 申请号 | CN200980115794.3 | 申请日期 | 2009.04.09 |
| 申请人 | 通快机床两合公司 | 发明人 | W·舍利驰-特斯曼;M-C·马丁斯 |
| 分类号 | B23K26/42(2006.01)I;G01K17/00(2006.01)I;G01J1/42(2006.01)I | 主分类号 | B23K26/42(2006.01)I |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人 | 侯鸣慧 |
| 主权项 | 用于分析激光光束(3)的光束剖面的装置(6)，包括：承载板(7)，多个第一温敏测量元件(9，9a至9g)、尤其是二极管，这些第一温敏测量元件被设置在该承载板(7)的第一面(7a)上的优选呈矩阵形式布置(8)的多个测量点上，以及多个第二温敏测量元件(11，11a至11g)、尤其是二极管，这些第二温敏测量元件被设置在承载板(7)的第二面(7b)上的一另外的优选为矩阵形式的布置(10)中，其中，这些第一测量元件(9a至9g)中的每一个分别与这些第二测量元件(11a至11g)中的一个对置地设置并且与其通过延伸穿过该承载板(7)的印制导线(12a至12g，13a至13g)热耦合。 | ||
| 地址 | 德国迪琴根 | ||