发明名称 |
一种亮度可调的发光器件、阵列及其制造方法 |
摘要 |
本发明属于半导体器件技术领域,具体公开了一种亮度可调的发光器件、阵列及其制造方法。所述发光器件包括包括一个半导体衬底、位于所述半导体衬底之上的MOSFET和发光二极管。发光二极管(LED)及其控制元件(MOSFET)集成在同一个芯片上,使单个芯片就可以实现图像的发射。由多个所述的发光器件还可以构成发光器件阵列。同时,本发明还公开了所述发光器件的制造方法。采用本发明所提出的发光器件制造的投影设备具有体积小、可便携性、功耗低等优点,而且,集成电路芯片的使用,使得投影设备系统大大简化,降低了生产成本,并且可以大大提高像素及亮度。 |
申请公布号 |
CN102097447A |
申请公布日期 |
2011.06.15 |
申请号 |
CN201010545127.3 |
申请日期 |
2010.11.16 |
申请人 |
复旦大学 |
发明人 |
王鹏飞;林曦;刘昕彦;张卫 |
分类号 |
H01L27/15(2006.01)I;H01L27/04(2006.01)I;H01L21/82(2006.01)I;H01L33/00(2010.01)I;G03B21/20(2006.01)I |
主分类号 |
H01L27/15(2006.01)I |
代理机构 |
上海正旦专利代理有限公司 31200 |
代理人 |
陆飞;盛志范 |
主权项 |
一种亮度可调的发光器件,其特征在于包括一个半导体衬底、位于所述半导体衬底之上的MOSFET和发光二极管,其特征在于,所述发光二极管包括发光层、位于所述发光层之上的p型区域、位于所述发光层之下的n型区域;所述MOSFET包括一个硅衬底、位于所述硅衬底之上的栅区、位于所述硅衬底内所述栅区两侧的源区和漏区;所述MOSFET的硅衬底通过隔离结构与所述发光二极管、所述半导体衬底相隔离;所述MOSFET的源区与所述发光二极管的p型区域通过金属连接,所述MOSFET控制所述发光二极管发光。 |
地址 |
200433 上海市杨浦区邯郸路220号 |