| 发明名称 | 保护在适于在等离子体处理系统中使用的基片支撑件中的粘结层的方法 | ||
| 摘要 | 一种保护在适于在等离子体处理系统中使用的基片支撑件中的粘结层的方法，所述方法包括：将上部构件与下部构件连接；将碳氟聚合物材料环膨胀至大于所述上部构件的外径的直径；以及围绕所述粘结层收缩安装所述保护环。 | ||
| 申请公布号 | CN102097353A | 申请公布日期 | 2011.06.15 |
| 申请号 | CN201010534029.X | 申请日期 | 2006.07.13 |
| 申请人 | 朗姆研究公司 | 发明人 | 安东尼·里奇;吉姆·塔潘;基思·科门丹特 |
| 分类号 | H01L21/687(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/687(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海胜康律师事务所 31263 | 代理人 | 周文强;李献忠 |
| 主权项 | 一种保护粘结层的方法，所述方法包括：将上部构件与下部构件连接；将碳氟聚合物材料环膨胀至大于所述上部构件的外径的直径；以及围绕所述粘结层收缩安装保护环。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||