发明名称 | 一种中空阴极电弧离子镀涂层系统 | ||
摘要 | 一种中空阴极电弧离子镀涂层系统,包括真空室,真空室设有抽真空口,真空室内设有阴极电弧靶和工件架,所述真空室与地绝缘,真空室内壁装上靶材,与电源负极连接,形成中空阴极电弧靶;工件架位于中空阴极电弧靶所包围空间的中心区域。本发明与常规电弧离子镀技术不同,本发明采用可旋转的电磁线圈产生控弧磁场,线圈旋转的转速可以通过调整电机转速进行调整。本发明对常规电弧离子镀技术进行大幅度的改进,首次提出了中空阴极电弧离子镀技术。大幅度提高了涂层的沉积效率,简化了涂层设备。具有镀膜效率高、成本低、操作方便等特点。可以满足工业上超厚涂层的要求。具有较好的应用前景。 | ||
申请公布号 | CN101698934B | 申请公布日期 | 2011.06.15 |
申请号 | CN200910272501.4 | 申请日期 | 2009.10.23 |
申请人 | 武汉大学 | 发明人 | 杨兵;丁辉 |
分类号 | C23C14/32(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/32(2006.01)I |
代理机构 | 武汉天力专利事务所 42208 | 代理人 | 程祥;冯卫平 |
主权项 | 一种中空阴极电弧离子镀涂层系统,包括真空室,真空室设有抽真空口,真空室内设有阴极电弧靶和工件架,其特征在于:所述真空室与地绝缘,真空室内壁装上靶材,与电源负极连接,形成中空阴极电弧靶;工件架位于中空阴极电弧靶所包围空间的中心区域;真空室外设有可绕真空室转动的线圈架,线圈架上固定有电磁线圈,电磁线圈在直流电源驱动下产生的磁场穿过真空室壁到达中空阴极电弧靶的表面,控制电弧运动。 | ||
地址 | 430072 湖北省武汉市武昌珞珈山 |