发明名称 成膜装置
摘要 本发明提供一种成膜装置。该成膜装置包括:旋转台,其能够旋转地设置于容器内,在第1面包含用于载置基板的基板载置区域;第1反应气体供给部,其用于向旋转台的第1面供给第1反应气体;第2反应气体供给部,其沿着旋转台的旋转方向相对于第1反应气体供给部分离开,用于向旋转台的第1面供给第2反应气体;分离气体供给部,其设置在第1及第2反应气体供给部之间,用于供给将第1及第2反应气体分离的分离气体;排气口,其用于对容器内进行排气;空间划分构件,其设置于第1及第2反应气体供给部中的至少一个,划分出包含该反应气体供给部与旋转台的第1面之间的空间的第1空间、及与第1空间的气体相比分离气体易于流动的第2空间。
申请公布号 CN102094187A 申请公布日期 2011.06.15
申请号 CN201010591764.4 申请日期 2010.12.09
申请人 东京毅力科创株式会社 发明人 加藤寿;本间学;织户康一;竹内靖;菊地宏之
分类号 C23C16/455(2006.01)I 主分类号 C23C16/455(2006.01)I
代理机构 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人 刘新宇;张会华
主权项 一种成膜装置,该成膜装置通过在容器内将按顺序向基板供给互相反应的至少两种反应气体的供给循环执行多次,层叠多层反应生成物而形成薄膜,其中,包括:旋转台,其能够旋转地设置于上述容器内,在第1面包含用于载置基板的基板载置区域;第1反应气体供给部,其用于向上述旋转台的上述第1面供给第1反应气体;第2反应气体供给部,其沿着上述旋转台的旋转方向相对于上述第1反应气体供给部分离开,用于向上述旋转台的上述第1面供给第2反应气体;分离气体供给部,其设置在上述第1反应气体供给部与上述第2反应气体供给部之间,用于供给将上述第1反应气体和上述第2反应气体分离的分离气体;排气口,其用于对上述容器内进行排气;空间划分构件,其设置于上述第1反应气体供给部和上述第2反应气体供给部中的至少一个反应气体供给部,划分出包含该反应气体供给部与上述旋转台的上述第1面之间的空间的第1空间、及与该第1空间相比上述分离气体易于流动的第2空间。
地址 日本东京都