发明名称 在纳米棒的氧化锌上生长无支撑的氮化镓纳米晶的方法
摘要 一种在纳米棒的氧化锌上生长无支撑的氮化镓纳米晶的方法,包含以下步骤:步骤1:取一衬底,表面清洗后,放入金属有机物化学气相沉积设备的反应室中;步骤2:使用金属有机物化学气相沉积方法,在衬底上生长纳米棒的ZnO层,以用来限制后续生长GaN的二维生长;步骤3:用去离子水冲洗所生长的纳米棒的ZnO层,以清除表面的污染;步骤4:在反应室中,采用金属有机物化学气相沉积方法,使用纯N2载气在冲洗后的纳米棒的ZnO层上生长GaN纳米晶层,纳米晶的尺寸取决于纳米棒的ZnO层的直径;步骤5:在反应室中,使用N2+H2混合载气刻蚀纳米棒的ZnO层,完成无支撑的GaN纳米晶层的生长。
申请公布号 CN101245491B 申请公布日期 2011.06.15
申请号 CN200710063881.1 申请日期 2007.02.14
申请人 中国科学院半导体研究所 发明人 胡卫国;魏鸿源;焦春美;刘祥林
分类号 C30B29/38(2006.01)I;C30B25/18(2006.01)I 主分类号 C30B29/38(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 汤保平
主权项 一种在纳米棒的氧化锌上生长无支撑的氮化镓纳米晶的方法,其特征在于,包含以下步骤:步骤1:取一衬底,表面清洗后,放入金属有机物化学气相沉积设备的反应室中;步骤2:使用金属有机物化学气相沉积方法,在衬底上生长纳米棒的ZnO层,以用来限制后续生长GaN的二维生长;步骤3:用去离子水冲洗所生长的纳米棒的ZnO层,以清除表面的污染;步骤4:在反应室中,采用金属有机物化学气相沉积方法,使用纯N2载气在冲洗后的纳米棒的ZnO层上生长GaN纳米晶层,纳米晶的尺寸取决于纳米棒的ZnO层的直径;步骤5:在反应室中,使用N2+H2混合载气刻蚀纳米棒的ZnO层,完成无支撑的GaN纳米晶层的生长。
地址 100083 北京市海淀区清华东路甲35号