真空溅镀设备的移动靶装置

摘要

一种真空溅镀设备的移动靶装置，包括至少一个设置在该真空溅镀设备的一座腔体中且面朝输入该腔体中的一块基板的待镀表面的靶材、一个能相对该基板移动地设置在该腔体中且承载该靶材的活动靶座以及一个连接该活动靶座的驱动单元。利用该活动靶座能带动该靶材相对该基板往复滑移的结构设计，以用较少的溅镀腔体便在该基板上沉积出具预定均匀厚度的薄膜。

主权项

一种真空溅镀设备的移动靶装置，包括至少一个设置在该真空溅镀设备的一座腔体中且面朝输入该腔体中的一块基板的待镀表面的靶材，其特征在于，该真空溅镀设备的移动靶装置还包括一个能相对该基板移动地设置在该腔体中且承载该靶材的活动靶座以及一个连接该活动靶座的驱动单元。