| 发明名称 | 一种电子产品外壳的制备方法 | ||
| 摘要 | 一种电子产品外壳的制备方法包括在基材表面形成图案层，其中，所述形成图案层的方法包括将负型感光性材料涂覆在基材表面，使用掩膜板在曝光条件下对涂覆在基材表面的负型感光性材料进行曝光，使用显影液在显影条件下对曝光后的负型感光性材料进行显影。本发明提供的方法步骤简单，只需设计具有所需图案的掩膜板即可，因此可以缩短新产品开发周期并降低开发费用，从而降低电子产品外壳的制作成本。 | ||
| 申请公布号 | CN101320205B | 申请公布日期 | 2011.06.15 |
| 申请号 | CN200710106182.0 | 申请日期 | 2007.06.08 |
| 申请人 | 比亚迪股份有限公司 | 发明人 | 马红旭 |
| 分类号 | G03F7/00(2006.01)I;G03F7/038(2006.01)I;G03F1/14(2006.01)I;G03F7/32(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京润平知识产权代理有限公司 11283 | 代理人 | 王凤桐;董占敏 |
| 主权项 | 一种电子产品外壳的制备方法，该方法包括在基材表面形成图案层，其中，所述形成图案层的方法包括将负型感光性材料涂覆在基材表面，使用掩膜板在曝光条件下对涂覆在基材表面的负型感光性材料进行曝光，使用显影液在显影条件下对曝光后的负型感光性材料进行显影；所述曝光条件包括曝光的光积量为20‑200毫焦/平方厘米，曝光的光线的波长为380‑780纳米；所述显影条件包括显影温度为20‑30℃，显影时间为20‑100秒，显影压力为0.03‑0.2兆帕。 | ||
| 地址 | 518119 广东省深圳市龙岗区葵涌镇延安路比亚迪工业园 | ||