| 发明名称 | 光刻设备内的收集器装置的对准 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种光刻设备(2)，包括：辐射源(SO)，配置成提供辐射(200)；辐射收集器(CO)，配置成收集来自辐射源(SO)的辐射(200)；照射系统(IL)和探测器(300)。探测器(300)设置成与照射系统(IL)的相对于其对准所述收集器(CO)的部分具有固定的位置关系。此外，收集器(CO)的区域(310)可以配置成引导从辐射源(SO)发射并穿过所述区域(310)朝向探测器(300)的辐射(200)的一部分。所述探测器(300)布置成探测所述辐射(200)的一部分的改变。这种改变表示所述收集器(CO)相对于所述照射系统(IL)的相对于其对准所述收集器(CO)的部分的位置或取向的改变。 | ||
| 申请公布号 | CN102099744A | 申请公布日期 | 2011.06.15 |
| 申请号 | CN200980127688.7 | 申请日期 | 2009.07.15 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | M·克拉森;J·范斯库特;S·杜塔特尔 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G03F9/00(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 王波波 |
| 主权项 | 一种用于光刻设备的布置，所述布置包括：辐射源，用于提供辐射；辐射收集器，用于收集来自辐射源的辐射；照射系统，配置用以调节由所述收集器收集的辐射并提供辐射束；其中所述布置还包括：探测器，所述探测器设置成与照射系统的相对于其将对准收集器的部分具有固定的位置关系，和收集器的区域，配置成引导从辐射源发射并穿过所述区域朝向探测器的辐射的一部分，所述探测器布置成探测所述辐射的所述一部分的特性的改变，这种改变表示所述收集器相对于所述照射系统的相对于其将对准所述收集器的所述部分的位置或取向的改变。 | ||
| 地址 | 荷兰维德霍温 | ||