发明名称 | 环形轴流扇平衡结构改良 | ||
摘要 | |||
申请公布号 | TWM405488 | 申请公布日期 | 2011.06.11 |
申请号 | TW099225707 | 申请日期 | 2010.12.31 |
申请人 | 奇鋐科技股份有限公司 | 发明人 | 刘文豪 |
分类号 | F04D29/54 | 主分类号 | F04D29/54 |
代理机构 | 代理人 | 孙大龙 台北市大安区复兴南路2段283号7楼 | |
主权项 | 一种环形轴流扇平衡结构改良,主要包含:一轮毂及一环体,该环体环绕设在该轮毂外侧,并在该轮毂与该环体之间形成一环形流道,该环形流道中设有复数扇叶,该等扇叶具有一内端连接在该轮毂的外侧及一外端连接在该环体的内侧,所述环体上界定有至少一处之平衡区域供去除,以令该环形轴流扇之重量平衡。如申请专利范围第1项所述之环形轴流扇平衡结构改良,其中所述环体两侧分别具有一第一顶面与一第二顶面。如申请专利范围第2项所述之环形轴流扇平衡结构改良,其中所述第一顶面与第二顶面又分别延伸有分别具有一第一顶边与一第二顶边。如申请专利范围第2项所述之环形轴流扇平衡结构改良,其中所述平衡区域系设置于所述第一顶面。如申请专利范围第2项所述之环形轴流扇平衡结构改良,其中所述平衡区域系设置于所述第二顶面。如申请专利范围第2项所述之环形轴流扇平衡结构改良,其中所述平衡区域系设置于所述第一顶面及第二顶面。如申请专利范围第3项所述之环形轴流扇平衡结构改良,其中所述平衡区域系设置于所述第一顶面且凹陷于所述第一顶边。如申请专利范围第3项所述之环形轴流扇平衡结构改良,其中所述平衡区域系设置于所述第二顶面且凹陷于所述第二顶边。如申请专利范围第3项所述之环形轴流扇平衡结构改良,其中所述平衡区域系设置于所述第一顶面及第二顶面且分别凹陷于所述第一顶边及第二顶边。如申请专利范围第2项所述之环形轴流扇平衡结构改良,其中所述第一顶面相对轮毂中心之圆半径等于第二顶面相对轮毂中心之圆半径。如申请专利范围第2项所述之环形轴流扇平衡结构改良,其中所述第一顶面相对轮毂中心之圆半径大于第二顶面相对轮毂中心之圆半径。如申请专利范围第2项所述之环形轴流扇平衡结构改良,其中所述第二顶面相对轮毂中心之圆半径大于第一顶面相对轮毂中心之圆半径。如申请专利范围第1项所述之环形轴流扇平衡结构改良,其中所述平衡区域外表面上贴附有分隔件。 | ||
地址 | 新北市新庄区五权二路24号7楼之3 TW TAIPEI 7F-3, NO. 24, WU-CHUAN 2 RD., HSIN CHUANG CITY, TAIWAN, R.O.C. |