发明名称 微机电雷射扫描装置之二片式FΘ镜片(六) TWO OPTICAL ELEMENTS FΘ
摘要
申请公布号 TWI343329 申请公布日期 2011.06.11
申请号 TW097129673 申请日期 2008.08.05
申请人 一品光学工业股份有限公司 发明人 施柏源
分类号 B41J2/47;B81B7/02;G02B26/12;G02B26/08 主分类号 B41J2/47
代理机构 代理人 李国光 新北市中和区中正路880号4楼之3;张仲谦 新北市中和区中正路880号4楼之3
主权项 一种微机电雷射扫描装置之二片式f θ镜片,其系适用于一微机电雷射扫描装置,该微机电雷射扫描装置至少包含一用以发射光束之光源、一用以共振左右摆动将光源发射之光束反射成为一扫描光线之微机电反射镜、及一用以感光之目标物;其中该扫描光线于X方向为副扫描方向,于Y方向为主扫描方向;该二片式f θ镜片包含,由该微机电反射镜依序起算,系由一正屈光度新月形且凸面在该微机电反射镜侧之第一镜片及一正屈光度新月形且凸面在该微机电反射镜侧之第二镜片所构成,其中该第一镜片具有一第一光学面及一第二光学面,该第一光学面与该第二光学面,在主扫描方向至少有一个光学面为非球面所构成,系将该微机电反射镜反射之角度与时间非线性关系之扫描光线光点转换成距离与时间为线性关系之扫描光线光点;其中该第二镜片具有一第三光学面及一第四光学面,该第三光学面与该第四光学面,在主扫描方向至少有一个光学面为非球面所构成,系将该第一镜片之扫描光线修正聚光于该目标物上;藉由该二片式f θ镜片将该微机电反射镜反射之扫描光线于该目标物上成像。如申请专利范围第1项所述之微机电雷射扫描装置之二片式f θ镜片,在主扫描方向进一步满足下列条件:@sIMGTIF!d10022.TIF@eIMG!其中,f(1)Y为该第一镜片在主扫描方向之焦距、f(2)Y为该第二镜片在主扫描方向之焦距、d3为θ=0°该第一镜片目标物侧光学面至该第二镜片微机电反射镜侧光学面之距离、d4为θ=0°该第二镜片厚度、d5为θ=0°该第二镜片目标物侧光学面至该目标物之距离。如申请专利范围第1项所述之微机电雷射扫描装置之二片式f θ镜片,进一步满足下列条件:在主扫描方向满足@sIMGTIF!d10023.TIF@eIMG!在副扫描方向满足@sIMGTIF!d10024.TIF@eIMG!其中,f(1)Y与f(2)Y为该第一镜片及该第二镜片在主扫描方向之焦距、fsY为二片式f θ镜片在副扫描方向之复合焦距、fsY为二片式f θ镜片在主扫描方向之复合焦距、Rix为第i光学面在副扫描方向的曲率半径、nd1与nd2分别为该第一镜片与该第二镜片之折射率。如申请专利范围第1项所述之微机电雷射扫描装置之二片式f θ镜片,其中在该目标物上最大光点与最小光点大小的比值满足:@sIMGTIF!d10025.TIF@eIMG!其中,Sa与Sb为一感光鼓上扫瞄光线形成的任一个光点在主扫描方向及副扫描方向之长度、δ为该感光鼓上最小光点与最大光点之比值。如申请专利范围第1项所述之微机电雷射扫描装置之二片式f θ镜片,其中在该目标物上最大光点的比值与在该目标物上最小光点的比值分别满足@sIMGTIF!d10026.TIF@eIMG!其中,Sa0与Sb0为该微机电反射镜反射面上扫瞄光线的光点在主扫描方向及副扫描方向之长度、Sa与Sb为一感光鼓上扫瞄光线形成的任一个光点在主扫描方向及副扫描方向之长度、ηmax为该微机电反射镜反射面上扫瞄光线的光点与在该目标物上最大光点的比值、ηmin为该微机电反射镜反射面上扫瞄光线的光点与在该目标物上最小光点的比值。
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