| 主权项 |
一种光源单元，包括：一发光元件，以及一控光元件，具有相对之一第一表面及一第二表面，其中该第二表面朝向该发光元件，且该控光元件包括：复数个凸透镜面，设于该第一表面；以及一锥形凹面，设于该第二表面。如申请专利范围第1项所述之光源单元，其中该锥形凹面相对于该发光元件的光轴实质上为轴对称。如申请专利范围第1项所述之光源单元，其中该发光元件适于朝向该第二表面发出一光束，该锥形凹面相对于垂直于该发光元件的光轴之平面所夹的锐角为β(θ1)，其中θ1为该光束中的光线入射该锥形凹面的方向与该光束的光轴所夹的锐角，且该锥形凹面符合：@sIMGTIF!d10033.TIF@eIMG!其中，n为该控光元件的折射率，且f(θ1)为一递增函数，且f(θ1)为对应至θ1的该光束中的该光线在经由该锥形凹面进入该控光元件后的折射方向与该光束的该光轴所夹的锐角。如申请专利范围第3项所述之光源单元，其中f(θ1)的斜率随着θ1变大而递减。如申请专利范围第1项所述之光源单元，其中该发光元件适于发出一光束，且该控光元件更包括：一入光底面，环绕该锥形凹面；以及一全反射面，环绕该入光底面及该锥形凹面，其中该光束中穿透该入光底面的光线适于被该全反射面全反射至该第一表面。如申请专利范围第5项所述之光源单元，其中该全反射面相对于垂直于该发光元件的光轴之平面所夹的锐角为γ(θ1)，其中θ1为该光束中的光线入射该入光底面的方向与该光束的光轴所夹的锐角，且该全反射面符合：@sIMGTIF!d10034.TIF@eIMG!其中，n为该控光元件的折射率。如申请专利范围第6项所述之光源单元，其中该入光底面实质上垂直于该发光元件的该光轴。如申请专利范围第1项所述之光源单元，其中该些凸透镜面环绕该发光元件的光轴配置。如申请专利范围第8项所述之光源单元，其中该些凸透镜面各为一球面凸透镜面。如申请专利范围第9项所述之光源单元，其中每一该凸透镜面在垂直于该发光元件的该光轴之一参考平面上的正投影实质上为一矩形，该发光元件的该光轴与该参考平面的交点实质上落在该矩形的一角落上，当将该矩形划分为排成2×2阵列的四个矩形区域时，该凸透镜面的曲率中心在该参考平面上的正投影落在该四个矩形区域中之远离该角落且与该角落在该矩形之同一对角线上之一矩形区域中。如申请专利范围第1项所述之光源单元，其中该些凸透镜面各为一非球面凸透镜面。一种背光模组，包括：复数个光源单元，每一该光源单元包括：一发光元件，以及一控光元件，具有相对之一第一表面及一第二表面，其中该第二表面朝向该发光元件，且该控光元件包括：复数个凸透镜面，设于该第一表面；以及一锥形凹面，设于该第二表面；一扩散板，配置于该些光源单元上方，其中每一该控光元件配置于对应的该发光元件与该扩散板之间。如申请专利范围第12项所述之背光模组，更包括一反射单元，配置于该些光源单元下方。如申请专利范围第12项所述之背光模组，其中该些光源单元在该扩散板下方排成阵列。如申请专利范围第12项所述之背光模组，其中该锥形凹面相对于该发光元件的光轴实质上为轴对称。如申请专利范围第12项所述之背光模组，其中该发光元件适于朝向该第二表面发出一光束，该锥形凹面相对于垂直于该发光元件的光轴之平面所夹的锐角为β(θ1)，其中θ1为该光束中的光线入射该锥形凹面的方向与该光束的光轴所夹的锐角，且该锥形凹面符合：@sIMGTIF!d10035.TIF@eIMG!其中，n为该控光元件的折射率，且f(θ1)为一递增函数，且f(θ1)为对应至θ1的该光束中的该光线在经由该锥形凹面进入该控光元件后的折射方向与该光束的光轴所夹的锐角。如申请专利范围第16项所述之背光模组，其中f(θ1)的斜率随着θ1变大而递减。如申请专利范围第12项所述之背光模组，其中该发光元件适于发出一光束，且该控光元件更包括：一入光底面，环绕该锥形凹面；以及一全反射面，环绕该入光底面及该锥形凹面，其中该光束中穿透该入光底面的光线适于被该全反射面全反射至该第一表面。如申请专利范围第12项所述之背光模组，其中该些凸透镜面环绕该发光元件的光轴配置。如申请专利范围第12项所述之背光模组，更包括一光学膜片组，配置于该扩散板上，其中该光学膜片组包括一增亮膜、一双重亮度增亮膜、一微透镜阵列膜及一柱状透镜阵列膜之至少其一。 |
