| 摘要 |
1. Способ изготовления фотоэлектрического прибора, включающий: ! изготовление стеклянной подложки; ! травление и/или структурирование по меньшей мере одной основной поверхности стеклянной подложки для формирования текстурированной поверхности стеклянной подложки; ! нанесение напылением, по существу, конформного фронтального электрода на текстурированную поверхность стеклянной подложки, причем фронтальный электрод является, по существу, конформным, и обе основные поверхности фронтального электрода структурированы аналогично текстурированной поверхности стеклянной подложки; и ! применение, по существу, конформного фронтального электрода, образованного на текстурированной поверхности стеклянной подложки, на освещенной стороне фотоэлектрического прибора. ! 2. Способ по п.1, дополнительно включающий определение кривой квантовой эффективности (QE) фотоэлектрического прибора и формирование фронтального электрода таким образом, что область максимального пропускания фронтального электрода находится в пределах области максимума на кривой QE фотоэлектрического прибора. ! 3. Способ по п.2, дополнительно включающий формирование фронтального электрода таким образом, чтобы область максимального пропускания находилась в пределах области суммарного пика QE и спектра источника света, что позволяет использовать фронтальный электрод в фотоэлектрическом приборе. ! 4. Способ по п.3, в котором источник света имеет спектральный состав AM1.5. ! 5. Способ по п.2, дополнительно включающий формирование фронтального электрода таким образом, что суммарное пропускание фронтального электрода и стеклянной подложки в полупров� |
