发明名称 Method of forming p-type poly-gate and method of fabricating dual poly-gate using the method
摘要
申请公布号 KR101039143(B1) 申请公布日期 2011.06.03
申请号 KR20090053073 申请日期 2009.06.15
申请人 发明人
分类号 H01L21/336;H01L21/265 主分类号 H01L21/336
代理机构 代理人
主权项
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