| 主权项 |
一种座标检测装置，包含有：保持部，系可保持被检体者；摇动机构，系使前述保持部朝预定角度旋转者；一对导轨，系挟持前述被检体而对向配置于前述保持部上者；引导构件，系可在前述一对导轨上移动，且与前述被检体之表面对向而成非接触者；聚光源，系设置成可朝与前述引导构件之移动方向垂直之方向移动，且聚光斜向照射于前述被检体之表面者；操作部，系在藉由前述摇动机构将前述保持部倾斜成前述预定角度的状态下，使前述引导构件与前述聚光源分别移动，而可藉由前述聚光之照射位置来指定前述被检体上之缺陷位置者；及座标检测部，系可由前述引导构件与前述聚光源之各移动位置的位置资讯，求得由前述聚光所指定之前述缺陷位置之座标资料者。如申请专利范围第1项之座标检测装置，系于藉前述被检体而反射的聚光之反射光程上设置遮光构件。如申请专利范围第5项之座标检测装置，其中前述遮光构件系配置成于前述引导构件与前述遮光构件上形成使检查者可目视前述被检体上的缺陷之间隙。如申请专利范围第1项之座标检测装置，系设有对前述被检体照射巨观照明光之巨观照明部，且前述引导构件系安装成在前述保持部立起预定角度的状态下，使前述引导构件之长边方向沿着与巨观照明光的照射方向相同之方向延伸。如申请专利范围第1项之座标检测装置，其中前述聚光系雷射光。如申请专利范围第1项之座标检测装置，其中前述引导构件具有使检查者可目视照射于前述被检体的前述聚光之间隙。如申请专利范围第1项之座标检测装置，其中前述聚光源系配置成前述聚光朝向与前述引导构件之长边方向交错之斜下方。如申请专利范围第1项之座标检测装置，其中前述聚光源系将前述聚光之投射角度设定为相对前述被检体之表面为30~70°，以使前述聚光之照射位置不会成为前述引导构件之光影。一种被检体检查装置，系可对被检体照射巨观照明光，并以目视观察前述被检体上的缺陷者，其特征在于包含有：巨观照明部，系将前述巨观照明光照射于前述被检体者；保持部，系可保持前述被检体者；摇动机构，系使前述保持部旋转预定角度者；一对导轨，系挟持前述被检体而对向配置于前述保持部上者；引导构件，系可于前述被检体表面上移动，而与前述被检体之表面对向且成非接触者；聚光源，系设置成可朝与前述引导构件之移动方向垂直之方向移动，且将聚光斜向照射于前述被检体之表面者；操作部，系在藉由前述摇动机构将前述保持部倾斜前述预定角度的状态下，使前述引导构件与聚光源各自移动，并藉前述聚光之照射位置指定前述被检体上的缺陷位置者；及座标检测部，系可由前述引导构件及前述聚光源的各移动位置之位置资讯，求得前述聚光所指定的前述缺陷位置之座标资料者。一种被检体检查装置，系可对被检体的特定部位进行显微观察者，其特征在于包含有：巨观照明部，系用以对前述被检体照射巨观照明光者；保持部，系可保持前述被检体者；摇动机构，系使前述保持部朝预定角度旋转者；一对导轨，系挟持前述被检体而对向配置于前述保持部上者；引导构件，系系可于前述一对导轨上移动，且与前述被检体之表面对向而成非接触者；聚光源，系设置成可朝与前述引导构件之移动方向垂直之方向移动，且聚光斜向照射于前述被检体之表面者；操作部，系在藉由前述摇动机构将前述保持部倾斜前述预定角度的状态下，使前述引导构件与前述聚光源分别移动，而可藉由前述聚光之照射位置来指定前述被检体上之缺陷位置者；座标检测部，系可由前述引导构件与前述聚光源之各移动位置的位置资讯，求得由前述聚光所指定之前述缺陷位置之座标资料者；及显微观察部，系设置成可对前述被检体作相对移动，并且根据前述座标检测部所求得之前述座标资料而移动到前述缺陷位置，以进行显微镜观察。如申请专利范围第10项之被检体检查装置，其中前述保持部具有可使前述引导构件退避以防止与前述显微观察部互相干涉之退避范围。 |
