发明名称 曝光机的光源装置
摘要
申请公布号 TWM404987 申请公布日期 2011.06.01
申请号 TW099222873 申请日期 2010.11.25
申请人 志圣工业股份有限公司 发明人 王俊元;陈立扬
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 高玉骏 台北市松山区南京东路3段248号7楼;杨祺雄 台北市松山区南京东路3段248号7楼
主权项 一种曝光机的光源装置,包含:一外壳,包括一容置空间,及一使该容置空间与外部连通的开口;一灯管,设置于该容置空间内并可产生光线,该灯管产生的光线能经由该开口照射至该外壳外;及一遮光模组,设置于该开口并包括一第一遮光区、复数个位于该第一遮光区内用以供光线穿过的第一透光部、一对应于该灯管位置的第二遮光区,及复数个位于该第二遮光区内用以供光线穿过的第二透光部,该第一遮光区位在该第二遮光区外周围,且该第二遮光区的遮光率大于该第一遮光区的遮光率。根据申请专利范围第1项所述之曝光机的光源装置,其中,该遮光模组包括一形成该第一遮光区并封闭该开口的第一遮光元件,及一形成该第二遮光区并接合于该第一遮光元件中间处的第二遮光元件,该第二遮光元件外形小于该第一遮光元件外形。根据申请专利范围第2项所述之曝光机的光源装置,其中,该第一遮光区与所述第一透光部部份会与该第二遮光区及所述第二透光部重叠,该第一遮光区与所述第一透光部部份位在该第二遮光区外周围。根据申请专利范围第3项所述之曝光机的光源装置,其中,该第一、第二遮光元件分别为一网体,该第一、第二遮光元件包含复数条经线及复数条编织于所述经线上的纬线,该第二遮光元件的所述经、纬线编织密度较该第一遮光元件的所述经、纬线编织密度密。根据申请专利范围第4项所述之曝光机的光源装置,其中,各该第一、第二透光部分别为一网孔,各该第二透光部小于各该第一透光部。根据申请专利范围第3项所述之曝光机的光源装置,其中,该第一、第二遮光元件分别为一板件,各该第一、第二透光部分别为一穿孔,各该第二透光部小于各该第一透光部。根据申请专利范围第1项所述之曝光机的光源装置,其中,该遮光模组为一网体,该网体包括复数条经线及复数条编织于所述经线上的纬线,所述经、纬线共同形成该第二遮光区的编织密度较所述经、纬线共同形成该第一遮光区的编织密度密。根据申请专利范围第7项所述之曝光机的光源装置,其中,各该第一、第二透光部分别为一网孔,各该第二透光部小于各该第一透光部。根据申请专利范围第1项所述之曝光机的光源装置,其中,该遮光模组为一形成该第一、第二遮光区的板件,各该第一、第二透光部分别为一穿孔,各该第二透光部小于各该第一透光部。
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