| 主权项 |
一种光学装置，包括：一底座；至少一导杆，连接于该底座；一线圈，设置于该底座之中，其中，该线圈位于该光学装置之一光轴方向上之一中心轴系平行于该导杆位于该光轴方向上之一轴心；一镜头套筒，系以滑动之方式穿设于该导杆之上，其中，该镜头套筒位于该光轴方向上之一中心轴系平行于该导杆之该轴心，以及该镜头套筒系沿该导杆之该轴心滑动；一磁性元件，连接于该镜头套筒，并且系相对于该线圈，用以提供一第一磁场，其中，当该线圈被依一第一电流方向通以一电流而产生一第二磁场时，该镜头套筒系藉由该第一磁场与该第二磁场间之相吸作用而依一第一方向滑动于该导杆之上，以及当该线圈被依一第二电流方向通以一电流而产生一第二磁场时，该镜头套筒系藉由该第一磁场与该第二磁场间之相斥作用而依一第二方向滑动于该导杆之上；以及一定位元件，设置于该底座之上，并且相对于该磁性元件，其中，该镜头套筒系藉由该磁性元件与该定位元件间之相吸作用而无偏移地滑动于该导杆之上。如申请专利范围第1项所述之光学装置，更包括一导磁元件，系设置于该线圈之中，用以增进该磁性元件与该线圈间之相吸或相斥作用。如申请专利范围第1项所述之光学装置，更包括一磁场感测元件，系设置于该底座之上，并且系相对于该磁性元件，用以感测该磁性元件之移动位置。如申请专利范围第1项所述之光学装置，其中，该定位元件包括金属或一磁石。如申请专利范围第1项所述之光学装置，其中，该定位元件包括一线圈，以及该线圈系被通以一电流而产生一磁场，以与该磁性元件相吸或相斥。如申请专利范围第1项所述之光学装置，更包括一镜头以及一影像感测元件，其中，该镜头系设置于该镜头套筒之中，以及该影像感测元件系设置于该底座之中，并且系相对于该镜头。一种光学装置，包括：一底座；至少一导杆，连接于该底座；一镜头套筒，系以滑动之方式穿设于该导杆之上，其中，该镜头套筒位于该光学装置之一光轴方向上之一中心轴系平行于该导杆位于该光轴方向上之一轴心，以及该镜头套筒系沿该导杆之轴心滑动；至少一线圈，设置于该底座之中，其中，该线圈位于该光轴方向上之一中心轴系与该导杆位于该光轴方向上之该轴心重合；至少一磁性元件，连接于该镜头套筒，并且系相对于该线圈，用以提供一第一磁场，其中，当该线圈被依一第一电流方向通以一电流而产生一第二磁场时，该镜头套筒系藉由该第一磁场与该第二磁场间之相吸作用而依一第一方向滑动于该导杆之上，以及当该线圈被依一第二电流方向通以一电流而产生一第二磁场时，该镜头套筒系藉由该第一磁场与该第二磁场间之相斥作用而依一第二方向滑动于该导杆之上；以及一定位元件，设置于该底座之上，并且相对于该磁性元件，其中，该镜头套筒系藉由该磁性元件与该定位元件间之相吸作用而无偏移地滑动于该导杆之上。如申请专利范围第7项所述之光学装置，更包括至少一磁场感测元件，系设置于该底座之上，并且系相对于该磁性元件，用以感测该磁性元件之移动位置。如申请专利范围第7项所述之光学装置，其中，该定位元件包括金属或一磁石。如申请专利范围第7项所述之光学装置，其中，该定位元件包括一线圈，以及该线圈系被通以一电流而产生一磁场，以与该磁性元件相吸或相斥。如申请专利范围第7项所述之光学装置，其中，该导杆系由导磁材料所制成，用以增进该磁性元件与该线圈间之相吸或相斥作用。如申请专利范围第7项所述之光学装置，更包括一镜头以及一影像感测元件，其中，该镜头系设置于该镜头套筒之中，以及该影像感测元件系设置于该底座之中，并且系相对于该镜头。如申请专利范围第7项所述之光学装置，其中，该磁性元件以及该线圈系以滑动之方式穿设于该导杆之上。一种光学装置，包括：一底座；至少一导杆，连接于该底座；一镜头套筒，系以滑动之方式穿设于该导杆之上，其中，该镜头套筒位于该光学装置之一光轴方向上之一中心轴系平行于该导杆位于该光轴方向上之一轴心，以及该镜头套筒系沿该导杆之该轴心滑动；一线圈，设置于该镜头套筒之上，其中，该线圈位于该光轴方向上之一中心轴系平行于该导杆之该轴心；一第一磁性元件，设置于该底座之中，并且系相对于该线圈，用以提供一第一磁场，其中，当该线圈被依一第一电流方向通以一电流而产生一第二磁场时，该镜头套筒系藉由该第一磁场与该第二磁场间之相吸作用而依一第一方向滑动于该导杆之上，以及当该线圈被依一第二电流方向通以一电流而产生一第二磁场时，该镜头套筒系藉由该第一磁场与该第二磁场间之相斥作用而依一第二方向滑动于该导杆之上；一第三磁性元件，连接于该镜头套筒；以及一定位元件，设置于该底座之上，并且相对于该第三磁性元件，其中，该镜头套筒系藉由该第三磁性元件与该定位元件间之相吸作用而无偏移地滑动于该导杆之上。如申请专利范围第14项所述之光学装置，更包括一导磁元件，系设置于该镜头套筒之上，并且系位于该线圈之中，用以增进该第一磁性元件与该线圈间之相吸或相斥作用。如申请专利范围第14项所述之光学装置，更包括一第二磁性元件以及一磁场感测元件，其中，该第二磁性元件系连接于该镜头套筒，以及该磁场感测元件系设置于该底座之上，并且系相对于该第二磁性元件，用以感测该镜头套筒之移动位置。如申请专利范围第14项所述之光学装置，更包括一镜头以及一影像感测元件，其中，该磁性元件具有一透孔，该镜头系设置于该镜头套筒之中，以及该影像感测元件系设置于该底座之中，并且系经由该透孔而相对于该镜头。一种光学装置，包括：一底座；至少一导杆，连接于该底座；一镜头套筒，系以滑动之方式穿设于该导杆之上，其中，该镜头套筒位于该光学装置之一光轴方向上之一中心轴系平行于该导杆位于该光轴方向上之一轴心，以及该镜头套筒系沿该导杆之该轴心滑动；至少一线圈，设置于该镜头套筒之上，其中，该线圈位于该光轴方向上之一中心轴系与该导杆之该轴心重合；至少一第一磁性元件，设置于底座之中，并且系相对于该线圈，用以提供一第一磁场，其中，当该线圈被依一第一电流方向通以一电流而产生一第二磁场时，该镜头套筒系藉由该第一磁场与该第二磁场间之相吸作用而依一第一方向滑动于该导杆之上，以及当该线圈被依一第二电流方向通以一电流而产生一第二磁场时，该镜头套筒系藉由该第一磁场与该第二磁场间之相斥作用而依一第二方向滑动于该导杆之上；一第三磁性元件，连接于该镜头套筒；以及一定位元件，设置于该底座之上，并且相对于该第三磁性元件，其中，该镜头套筒系藉由该第三磁性元件与该定位元件间之相吸作用而无偏移地滑动于该导杆之上。如申请专利范围第18项所述之光学装置，其中，该导杆系由导磁材料所制成，用以增进该第一磁性元件与该线圈间之相吸或相斥作用。如申请专利范围第18项所述之光学装置，更包括一第二磁性元件以及一磁场感测元件，其中，该第二磁性元件系连接于该镜头套筒，以及该磁场感测元件系设置于该底座之上，并且系相对于该第二磁性元件，用以感测该镜头套筒之移动位置。如申请专利范围第18项所述之光学装置，更包括一镜头以及一影像感测元件，其中，该镜头系设置于该镜头套筒之中，以及该影像感测元件系设置于该底座之中，并且系相对于该镜头。如申请专利范围第18项所述之光学装置，其中，该第一磁性元件以及该线圈系穿设于该导杆之上。一种光学装置，包括：一底座，具有一内壁；一镜头套筒，系以滑动之方式设置于该底座之中，并且系抵接于该内壁；一线圈，设置于该底座之中，其中，该线圈位于该光学装置之一光轴方向上之一中心轴系与该镜头套筒位于该光轴方向上之一中心轴重合；一磁性元件，连接于该镜头套筒，并且系相对于该线圈，用以提供一第一磁场，其中，当该线圈被依一第一电流方向通以一电流而产生一第二磁场时，该镜头套筒系藉由该第一磁场与该第二磁场间之相吸作用而依一第一方向滑动于该导杆之上，以及当该线圈被依一第二电流方向通以一电流而产生一第二磁场时，该镜头套筒系藉由该第一磁场与该第二磁场间之相斥作用而依一第二方向滑动于该导杆之上；以及一定位元件，设置于该底座之中，并且相对于该磁性元件，其中，该镜头套筒系藉由该磁性元件与该定位元件间之相吸作用而无偏移地滑动于该底座之中。如申请专利范围第23项所述之光学装置，更包括一导磁元件，系设置于该线圈之中，用以增进该磁性元件与该线圈间之相吸或相斥作用。.如申请专利范围第23项所述之光学装置，更包括一磁场感测元件，系设置于该底座之中，并且系相对于该磁性元件，用以感测该磁性元件之移动位置。如申请专利范围第23项所述之光学装置，其中，该定位元件包括金属或一磁石。如申请专利范围第23项所述之光学装置，其中，该定位元件包括一线圈，以及该线圈系被通以一电流而产生一磁场，以与该磁性元件相吸或相斥。如申请专利范围第23项所述之光学装置，更包括一镜头以及一影像感测元件，其中，该镜头系设置于该镜头套筒之中，以及该影像感测元件系设置于该底座之中，并且系相对于该镜头。一种光学装置，包括：一底座，具有一内壁；一镜头套筒，系以滑动之方式设置于该底座之中，并且系抵接于该内壁；一线圈，设置于该镜头套筒之上，其中，该线圈位于该光学装置之一光轴方向上之一中心轴系与该镜头套筒位于该光轴方向上之一中心轴重合；一第一磁性元件，设置于该底座之中，并且系相对于该线圈，用以提供一第一磁场，其中，当该线圈被依一第一电流方向通以一电流而产生一第二磁场时，该镜头套筒系藉由该第一磁场与该第二磁场间之相吸作用而依一第一方向滑动于该导杆之上，以及当该线圈被依一第二电流方向通以一电流而产生一第二磁场时，该镜头套筒系藉由该第一磁场与该第二磁场间之相斥作用而依一第二方向滑动于该导杆之上；一第三磁性元件，设置于该镜头套筒之中；以及一定位元件，设置于该底座之中，并且相对于该第三磁性元件，其中，该镜头套筒系藉由该第三磁性元件与该定位元件间之相吸作用而无偏移地滑动于该底座之中。如申请专利范围第29项所述之光学装置，更包括一导磁元件，系设置于该镜头套筒之上，并且系位于该线圈之中，用以增进该第一磁性元件与该线圈间之相吸或相斥作用。如申请专利范围第29项所述之光学装置，更包括一第二磁性元件以及一磁场感测元件，其中，该第二磁性元件系设置于该镜头套筒之中，以及该磁场感测元件系设置于该底座之中，并且系相对于该第二磁性元件，用以感测该镜头套筒之移动位置。如申请专利范围第29项所述之光学装置，更包括一镜头以及一影像感测元件，其中，该镜头系设置于该镜头套筒之中，以及该影像感测元件系设置于该底座之中，并且系相对于该镜头。一种光学装置，包括：一底座；一导杆，连接于该底座，并且具有位于该光学装置之一光轴方向上之一第一中心轴；一线圈，系以滑动之方式穿设于该导杆之上，并且具有位于该光轴方向上之一第二中心轴以及一第一高度中心轴，其中，该第二中心轴系垂直于该第一高度中心轴；一固定磁性元件，连接于该底座，并且设置于该线圈之中，其中，该固定磁性元件具有一充磁中心轴以及一第二高度中心轴，该充磁中心轴系垂直于该第二高度中心轴，并且系与该线圈之该第二中心轴重合，以及该第二高度中心轴系间隔于该第一高度中心轴；一镜头套筒，连接于该线圈，其中，当该线圈被通以一电流时，该电流系与该固定磁性元件所提供之一磁场交互作用而产生一磁力，以驱使该线圈及该镜头套筒沿该导杆之该第一中心轴移动；一金属板；以及一磁性元件，连接于该底座，并且相对于该金属板，其中，该线圈系藉由该磁性元件与该金属板间之相吸作用而固定于该导杆之上。如申请专利范围第33项所述之光学装置，更包括一位置感测元件，系连接于该线圈，用以感测该线圈之移动位置。如申请专利范围第34项所述之光学装置，其中，该位置感测元件系为一霍尔元件、一磁阻感测器或一光遮断器。如申请专利范围第35项所述之光学装置，其中，该金属板系连接于该位置感测元件。一种光学装置，包括：一底座；一导杆，连接于该底座，并且具有位于该光学装置之一光轴方向上之一第一中心轴；一线圈，系以滑动之方式穿设于该导杆之上，并且具有位于该光轴方向上之一第二中心轴以及一第一高度中心轴，其中，该第二中心轴系垂直于该第一高度中心轴；一第一固定磁性元件，连接于该底座，并且设置于该线圈之中，其中，该第一固定磁性元件具有一第一充磁中心轴以及一第二高度中心轴，该第一充磁中心轴系垂直于该第二高度中心轴，并且系与该线圈之该第二中心轴重合，以及该第二高度中心轴系间隔于该第一高度中心轴；一第二固定磁性元件，设置于该线圈之中，并且系以一特定距离间隔于该第一固定磁性元件，其中，该第二固定磁性元件系以同极相对之方式相对于该第一固定磁性元件，该第二固定磁性元件具有一第二充磁中心轴以及一第三高度中心轴，该第二充磁中心轴系垂直于该第三高度中心轴，并且系与该线圈之该第二中心轴重合，该第三高度中心轴系间隔于该第一高度中心轴，以及该第一高度中心轴系位于该第二高度中心轴与该第三高度中心轴之间；一镜头套筒，连接于该线圈，其中，当该线圈被通以一电流时，该电流系与该第一固定磁性元件及该第二固定磁性元件所提供之磁场交互作用而产生一磁力，以驱使该线圈及该镜头套筒沿该导杆之该第一中心轴移动；一金属板；以及一磁性元件，连接于该底座，并且相对于该金属板，其中，该线圈系藉由该磁性元件与该金属板间之相吸作用而固定于该导杆之上。如申请专利范围第37项所述之光学装置，更包括一位置感测元件，系连接于该线圈，用以感测该线圈之移动位置。如申请专利范围第38项所述之光学装置，其中，该位置感测元件系为一霍尔元件、一磁阻感测器或一光遮断器。如申请专利范围第39项所述之光学装置，其中，该金属板系连接于该位置感测元件。如申请专利范围第37项所述之光学装置，更包括一导磁元件，系设置于该第一固定磁性元件与该第二固定磁性元件之间。 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