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一种浸润式微影装置，包括：一成像镜片模组；一基板平台，位于该成像镜片模组下方，用于握持一基板；一流体模组，以供应一流体至位于该成像镜片模组与位于该基板平台上之一基板间之一空间处；以及一超音波模组，用于供应一超音波能量至位于该基板平台与位于该流体模组间之一空间之该流体，其中该流体模组包括整合于该基板平台内之一洁净流体供应器与一洁净流体排放器，使得一洁净流体可被导入与移出该基板平台且可抵达位于一基板区之外侧，而该超音波模组系埋设于该基板平台内且设置于紧邻为该洁净流体所注入之该空间，使得该超音波能量大体传输至该洁净流体以洁净该浸润式微影装置之构件。如申请专利范围第1项所述之浸润式微影装置，更包括一浸润流体保存模组，以供应一浸润流体至位于该成像镜片模组与位于该基板平台上之一基板间之一空间处。如申请专利范围第2项所述之浸润式微影装置，其中该超音波模组系用于洁净至少该成像镜片模组、该基板平台与该浸润流体保存模组之一。如申请专利范围第1项所述之浸润式微影装置，更包括一加热器，邻近该洁净流体供应器，以加热该流体。如申请专利范围第1项所述之浸润式微影装置，其中该超音波模组系供应能量介于1微瓦~1千瓦以及频率介于1KHz至1GHz之一超音波能量。一种浸润式微影装置之洁净方法，包括下列步骤：提供如申请专利范围第1项所述之一浸润式微影装置；藉由该超音波模组以对该浸润式微影装置施行一洁净程序；以及于该洁净程序之后，藉由该浸润式微影装置以对一基板施行一曝光程序。 |
