| 主权项 |
一种支持支架，包含：一外支架；一内支架，系可沿一第一方向移动地结合于该外支架，该内支架设有一底座；一定位机构，系可沿一第二方向移动地设置于该外支架中，该定位机构可于一第一位置与一第二位置间移动，其中当该定位机构位于该第一位置时，该定位机构供与该底座卡合，当该定位机构位移至该第二位置时，该定位机构释放该底座；至少一缓冲元件，设置于该外支架并与该定位机构之一侧抵触；以及一弹性元件，分别与该定位机构一端及该内支架之内壁抵触；其中，当该定位机构位于该第二位置时，该弹性元件驱动该定位机构朝向该第一位置移动，该缓冲元件减缓该定位机构之该第二方向位移速度。如申请专利范围第1项所述之支持支架，其中该定位机构进一步包含一凸出部，该凸出部供套设该弹性元件。如申请专利范围第1项所述之支持支架，其中该弹性元件包含一螺旋弹簧。如申请专利范围第1项所述之支持支架，其中该底座进一步包含至少一卡榫，该定位机构则包含至少一倒勾部，该卡榫与该倒勾部得以彼此卡合。如申请专利范围第4项所述之支持支架，其中该底座进一步包含一第一倾斜面，该定位机构则包含一第二倾斜面，该第一倾斜面与该第二倾斜面相对应设置。如申请专利范围第5项所述之支持支架，其中当内外支架产生相对移动，且该第一倾斜面推挤该第二倾斜面时，该弹性元件受压迫并使该定位机构移动至该第二位置，使该卡榫脱离该倒勾部之限制；当该弹性元件驱动该定位机构移动至该第一位置时，该缓冲元件与该摩擦面摩擦，使该内支架脱离该定位机构之限制而朝该第一方向运动。如申请专利范围第1项所述之支持支架，其中该定位机构之该端进一步包含一摩擦面，该摩擦面供与该缓冲元件接触。如申请专利范围第1项所述之支持支架，其中该外支架更包含至少一凹槽，该凹槽供设置该缓冲元件。如申请专利范围第1项所述之支持支架，其中该内支架进一步包含连接一升降机构。如申请专利范围第1项所述之支持支架，其中该缓冲元件包含一绒布。如申请专利范围第1项所述之支持支架，其中该缓冲元件包含一导电布。一种电子装置，包含：一电子装置本体；以及一支持支架，与该电子装置本体连接，该支持支架包含：一外支架；一内支架，系可沿一第一方向移动地结合于该外支架，该内支架设有一底座；一定位机构，系可沿一第二方向移动地设置于该外支架中，该定位机构可于一第一位置与一第二位置间移动，其中当该定位机构位于该第一位置时，该定位机构供与该底座卡合，当该定位机构位移至该第二位置时，该定位机构释放该底座；至少一缓冲元件，设置于该外支架并与该定位机构之一侧抵触；以及一弹性元件，分别与该定位机构一端及该内支架之内壁抵触；其中，当该定位机构位于该第二位置时，该弹性元件驱动该定位机构朝向该第一位置移动，该缓冲元件减缓该定位机构之该第二方向位移速度。如申请专利范围第12项所述之电子装置，其中该定位机构进一步包含一凸出部，该凸出部供套设该弹性元件。如申请专利范围第12项所述之电子装置，其中该弹性元件包含一螺旋弹簧。如申请专利范围第12项所述之电子装置，其中该底座进一步包含至少一卡榫，该定位机构则包含至少一倒勾部，该卡榫与该倒勾部得以彼此卡合。如申请专利范围第15项所述之电子装置，其中该底座进一步包含一第一倾斜面，该定位机构则包含一第二倾斜面，该第一倾斜面与该第二倾斜面相对应设置。如申请专利范围第16项所述之电子装置，其中当内外支架产生相对移动，且该第一倾斜面推挤该第二倾斜面时，该弹性元件受压迫并使该定位机构移动至该第二位置，使该卡榫脱离该倒勾部之限制；当该弹性元件驱动该定位机构移动至该第一位置时，该缓冲元件与该摩擦面摩擦，使该内支架脱离该定位机构之限制而朝该第一方向运动。如申请专利范围第12项所述之电子装置，其中该定位机构之该端进一步包含一摩擦面，该摩擦面供与该缓冲元件接触。如申请专利范围第12项所述之电子装置，其中该外支架更包含至少一凹槽，该凹槽供设置该缓冲元件。如申请专利范围第12项所述之电子装置，其中该内支架进一步包含连接一升降机构。如申请专利范围第12项所述之电子装置，其中该缓冲元件包含一绒布。如申请专利范围第12项所述之电子装置，其中该缓冲元件包含一导电布。如申请专利范围第12项所示之电子装置，其中该周边装置本体包含一平面显示器。 |
