发明名称 一种共极型薄膜太阳电池的制备方法
摘要 一种共极型薄膜太阳电池,涉及薄膜技术和新能源开发技术领域。从底层至上层依次为:玻璃衬底、ITO透明电极、p层(p+和p)、i层、n层、i层、p层(p和p+)和ITO电极,从上、下ITO透明电极层引出引线为共电极作为正极,从n层引出引线为负极。本发明的共极型薄膜太阳电池稳定性好、双面受光、内阻损耗低、转换效率高、填充因子高以及I-V特性好。
申请公布号 CN101707218B 申请公布日期 2011.06.01
申请号 CN200910213029.7 申请日期 2009.11.05
申请人 江苏大学 发明人 丁建宁;郭立强;程广贵;袁宁一
分类号 H01L31/042(2006.01)I;H01L31/075(2006.01)I;H01L31/0352(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I 主分类号 H01L31/042(2006.01)I
代理机构 南京知识律师事务所 32207 代理人 汪旭东
主权项 一种共极型薄膜太阳电池的制备方法,具体为:(1)在透明衬底上,首先制成绒面结构,以增强光吸收性能;(2)制备ITO透明电极;(3)利用等离子体化学气相沉积系统依次制备p+、p、i、n、i、p、p+薄膜层;(4)制备ITO透明电极;(5)进行太阳电池版刻蚀和封装后续工艺;所述步骤(2)和(4)中ITO透明电极的具体制备过程为:玻璃衬底首先在碱液中清洗,然后置于HF溶液中浸泡10min,完成后用去离子水清洗,在烘箱内烘干,溅射前真空室本底真空高于3.6×10‑4Pa,在导入总流量为100mL/min、体积比为3.5∶1.5的Ar和O2的混合气体后溅射成膜;步骤(3)中利用PECVD方法制备纳米硅本征吸收层即i层,其中所用硅烷的稀释比[SiH4]/[SiH4+H2]是5%;利用PECVD方法和硼的掺杂制备P型纳米硅薄膜,硼烷与硅烷的体积流量比小于2∶1;所用硅烷的稀释比[SiH4]/[SiH4+H2]是5%,硼烷的稀释比[B2H6]/[B2H6+H2]是0.5%;利用PECVD方法和硼的掺杂制备P+型纳米硅薄膜,硼烷与硅烷的体积流量比大于1∶1;所用硅烷的稀释比[SiH4]/[SiH4+H2]是5%,硼烷的稀释比[B2H6]/[B2H6+H2]是0.5%;利用PECVD方法和磷的掺杂来制备N型纳米硅薄膜,磷烷与硅烷的流量比在体积1∶20~4∶25;其中所用硅烷的稀释比[SiH4]/[SiH4+H2]是5%,磷烷的稀释比[PH3]/[PH3+H2]是0.5%。
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