| 发明名称 | 光刻设备和生成掩模图案的方法以及该设备制造方法 | ||
| 摘要 | 通过用二维校正核心或两个一维校正核心旋绕器件特征将灰度级光学接近式校正器件特征添加到一掩模图案以便生成灰度级OPC特征。该结果图案可以用在具有适于生成三个或更多强度等级的可编程构图装置的投影光刻设备中。模拟由图案产生的空间图像、比较对希望的图案的模拟以及调整OPC特征的迭代过程，可以被用于生成投影的最佳图案。 | ||
| 申请公布号 | CN1746769B | 申请公布日期 | 2011.06.01 |
| 申请号 | CN200510109890.0 | 申请日期 | 2005.08.16 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | J·J·M·巴塞曼斯;K·D·范德马斯特;K·Z·特鲁斯特 |
| 分类号 | G03F1/00(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I;G06F17/50(2006.01)I | 主分类号 | G03F1/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 王波波 |
| 主权项 | 一种生成掩模图案的方法，包括：(a)接收表示将被打印的一个或多个特征的器件图案；(b)生成包括来自相对于具有第二强度等级的背景的具有第一强度等级的器件图案的一个或多个特征以及具有第三强度等级的至少一个校正特征的掩模图案，该第三强度等级在第一和第二强度等级之间，其中步骤(b)包括：(b1)用校正核心旋绕器件图案；(c)在光刻投影设备中模拟将要在掩模图案的投影上产生的空间图像；(d)比较模拟的空间图像和器件图案；以及(e)修改该掩模图案以至于该修改的掩模图案的修改的空间图像与该器件图案更加相似，其中的步骤(e)包括：(e1)根据步骤(d)的结果生成校正核心；以及(e2)用校正核心旋绕该掩模图案以便生成该修改的掩模图案。 | ||
| 地址 | 荷兰维尔德霍芬 | ||