| 发明名称 | 用于形成抗反射涂层的聚合物 | ||
| 摘要 | 本发明公开了用于形成有机抗反射涂层的聚合物以及包含该聚合物的组合物，其中该有机抗反射涂层位于蚀刻层和光刻胶层之间，并且在光刻过程中吸收照射光。该用于形成有机抗反射涂层的聚合物具有如式1和通式2所示的重复单元，其中R为取代的或未取代的C<sub>1</sub>-C<sub>5</sub>烷基。<img file="200610058606.6_ab_0.GIF" wi="325" he="130" />式1通式2 | ||
| 申请公布号 | CN1827659B | 申请公布日期 | 2011.06.01 |
| 申请号 | CN200610058606.6 | 申请日期 | 2006.03.02 |
| 申请人 | 株式会社东进世美肯 | 发明人 | 金相廷;金德倍;金宰贤 |
| 分类号 | C08F20/26(2006.01)I;G03F7/11(2006.01)I | 主分类号 | C08F20/26(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人 | 钟晶 |
| 主权项 | 1.用于形成有机抗反射涂层的聚合物，其中所述聚合物如以下通式3或通式4所示，[通式3]<img file="FSB00000374540400011.GIF" wi="1148" he="498" />[通式4]<img file="FSB00000374540400012.GIF" wi="1091" he="483" />其中，a，b，c和d为各重复单元占所述聚合物的总重复单元的摩尔分数，且a∶b∶c∶d的比为5-80％∶5-80％∶5-80％∶5-80％，且所述聚合物的重均分子量为5,000-50,000。 | ||
| 地址 | 韩国仁川广域市 | ||