用于等离子体处理室中的包括真空间隙的面向等离子体的探针装置

摘要

提供一种测量处理室内的工艺参数的装置。该装置包括设于上电极的开口中的探针装置。探针装置包括探针头，该探针头包括头部和法兰部。该装置还包括设在该上电极和该法兰部之间的O形环。该装置进一步包括由定位在该头部和该上电极的开口之间的电气隔离材料制成的衬垫，以阻止该探针装置碰到该上电极。该衬垫包括被配置为至少支撑该法兰部的下侧的圆盘部。该衬垫还包括被配置为环绕该头部的中空柱形部。该衬垫在该O形环和到该处理室的开口之间形成直角路径，由此阻止该O形环和到该处理室的该开口的直视线路径。

主权项

一种测量等离子体处理系统的处理室内的工艺参数的装置，包含：设于上电极的开口中的探针装置，其中所述探针装置包括探针头且所述探针头包括头部，其中所述头部是具有面向等离子体的表面的柱形塞并且被定位在所述上电极的所述开口内，以及法兰部，其中所述法兰部是直径比所述头部的直径更大的中空柱体结构并被定位在所述上电极的上表面上方；设在所述上电极的所述上表面和所述探针头的所述法兰部的面向底部的表面之间的O形环；以及由定位在所述探针头的所述头部的竖直侧壁和所述上电极的所述开口的竖直侧壁之间的电气隔离材料制成的衬垫，以阻止当所述探针装置被插入所述上电极的所述开口时所述探针装置碰到所述上电极，其中所述衬垫包括被配置为至少支撑所述探针头的所述法兰部的下侧的圆盘部，以及被配置为环绕所述探针头的所述头部的中空柱形部，其中所述中空柱形部具有比所述圆盘部更小的直径，其中所述衬垫在所述O形环和到所述处理室的开口之间形成直角路径，由此阻止所述O形环和到所述处理室的所述开口的直视线路径。