| 发明名称 | 包括傅立叶光学系统的照明系统 | ||
| 摘要 | 采用来自主光源(102)的光照明一照明场(165)的用于微光刻投射曝光设备(100)的照明系统(190)，具有可变可调节光瞳成形单元(150)，其从主光源(102)接收光并且在所述照明系统的光瞳成形面(110)中产生可变可调节的二维强度分布。所述光瞳成形单元(150)具有傅立叶光学系统(500)，其将通过傅立叶光学系统的入口平面进入的入口光束(105)转换为从所述傅立叶光学系统的出口平面离开的出口光束。所述傅立叶光学系统有焦距长度fFOS和沿光轴在入口侧第一系统表面和出口侧最后系统表面之间测量的结构长度L并且条件(L/fFOS)＜1/6成立。 | ||
| 申请公布号 | CN102084298A | 申请公布日期 | 2011.06.01 |
| 申请号 | CN200980125981.X | 申请日期 | 2009.04.17 |
| 申请人 | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 | 发明人 | 马库斯·施瓦布;迈克尔·莱;马库斯·德冈瑟;阿图尔·赫格尔 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 邱军 |
| 主权项 | 一种采用来自主光源的光照明一照明场的微光刻投射曝光设备的照明系统，包括：可变可调节光瞳成形单元，从所述主光源接收光并且在所述照明系统的光瞳成形面中产生可变可调节的二维强度分布，其中所述光瞳成形单元具有傅立叶光学系统，将通过所述傅立叶光学系统的入口平面进入的入口光束转换为从所述傅立叶光学系统的出口平面离开的出口光束，其中所述傅立叶光学系统具有焦距长度fFOS和沿光轴在入口侧第一系统表面和出口侧最后系统表面之间测量的结构长度L并且条件(L/fFOS)＜1/6成立。 | ||
| 地址 | 德国上科亨 | ||