| 发明名称 | 光刻设备和光刻设备清洗方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种光刻设备和一种光刻设备清洗方法，尤其公开了一种具有被配置为清洗表面的兆声换能器的浸没式光刻投射设备和一种利用兆声波清洗浸没式光刻投射设备的表面的方法。 | ||
| 申请公布号 | CN102081310A | 申请公布日期 | 2011.06.01 |
| 申请号 | CN201010559113.7 | 申请日期 | 2007.05.21 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | M·K·斯塔文加;R·J·布鲁尔斯;H·詹森;M·H·A·利恩德斯;P·F·万滕;J·W·J·L·库伊帕斯;R·G·M·比伦;A·M·C·P·德琼格 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;H01L21/687(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 王波波 |
| 主权项 | 一种浸没式光刻投射设备，包括：衬底台，其被构造并被布置为支撑衬底；投射系统，其被配置为将图案化的辐射射束投射到所述衬底上，所述投射系统具有最后元件；兆声换能器，其被配置为清洗表面；以及液体供应系统，其被构造并被布置为在所述兆声换能器和将要清洗的所述表面之间供给液体，其中所述最后元件被保护而免遭声波和/或清洗液对它的损害。 | ||
| 地址 | 荷兰费尔德霍芬 | ||