| 发明名称 | 存储介质引导带机构及其形成方法和存储介质引导带装置 | ||
| 摘要 | 存储介质引导带机构，所述存储介质引导带机构用于将存储介质的薄膜沿引导器穿在存储介质装置中的机器卷轴上，包括：旋转轴；和引导带块。所述引导带块包括：第一接触单元，所述第一接触单元可与引导引导带块的引导器接触；和可与引导器接触的第二接触单元。所述第一和第二接触单元共平面，第一和第二接触单元的共平面实质与旋转轴的旋转轴垂直。 | ||
| 申请公布号 | CN1905035B | 申请公布日期 | 2011.06.01 |
| 申请号 | CN200610082677.X | 申请日期 | 2006.05.12 |
| 申请人 | 日本电气株式会社 | 发明人 | 岛贯博行 |
| 分类号 | G11B15/67(2006.01)I | 主分类号 | G11B15/67(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 朱进桂 |
| 主权项 | 一种存储介质引导带机构(4、7、8)，所述存储介质引导带机构用于将存储介质(11)的薄膜沿引导器(5a)穿在或装在存储介质装置中的机器卷轴(3)上，所述存储介质引导带机构(4、7、8)包括：旋转轴(7)；拾取所述薄膜的引导带块(4)，所述引导带块(4)与所述旋转轴(7)可旋转地连接，其中：所述引导带块(4)包括：第一接触单元(8)，所述第一接触单元(8)可与引导所述引导带块(4)的所述引导器(5a)接触；和可与所述引导器(5a)接触的第二接触单元(4a)，其中所述第一和第二接触单元(8、4a)在同一高度。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||