发明名称 |
一种增益单元eDRAM单元、存储器及操作方法 |
摘要 |
本发明属于动态随机存储器技术领域,具体为一种增益单元eDRAM单元、存储器及其操作方法。本发明提供的增益单元eDRAM单元是在写MOS晶体管、读MOS晶体管、写字线、写位线、读字线、读位线、等效寄生电容的基础上,增加耦合互补MOS晶体管和接到固定电压的公共位线而获得,使该增益单元eDRAM单元具有数据保持时间长、刷新频率低的特点,由该增益单元eDRAM单元形成的存储器具有读取速度快、功耗低的特点。 |
申请公布号 |
CN102081962A |
申请公布日期 |
2011.06.01 |
申请号 |
CN200910199380.5 |
申请日期 |
2009.11.26 |
申请人 |
复旦大学 |
发明人 |
林殷茵;孟超;董存霖;程宽;马亚楠;严冰;解玉凤 |
分类号 |
G11C11/401(2006.01)I;G11C11/409(2006.01)I |
主分类号 |
G11C11/401(2006.01)I |
代理机构 |
上海正旦专利代理有限公司 31200 |
代理人 |
陆飞;盛志范 |
主权项 |
一种增益单元eDRAM单元,包括写MOS晶体管、读MOS晶体管、写字线、写位线、读字线、读位线,其特征在于,还包括耦合互补MOS晶体管和接固定电压的公共位线,所述耦合互补MOS晶体管的源端/漏端连接所述接固定电压的公共位线,所述耦合互补MOS晶体管的栅极连接所述读位线,所述耦合互补MOS晶体管的漏端/源端连接所述写MOS晶体管的漏端/源端以及所述读MOS晶体管的栅极,等效寄生电容形成于所述读MOS晶体管的栅极。 |
地址 |
200433 上海市邯郸路220号 |