| 发明名称 | 基板处理设备 | ||
| 摘要 | 本实用新型公开了一种基板处理设备，包括：多个传送轮，所述多个传送轮成排设置，用于传送玻璃基板；多个滑轨，设置于玻璃基板上方；多个喷嘴，设置于滑轨上，用于在滑轨上滑动，并向玻璃基板上喷淋液体；每排传送轮从所述玻璃基板的边缘至中部，直径依次递增，使所述玻璃基板表面呈中间高边缘低的弧形。本实用新型使玻璃基板表面各处喷洒的液体流量和压力更加均匀，从而使玻璃基板表面各处的处理效果趋于相同。 | ||
| 申请公布号 | CN201853680U | 申请公布日期 | 2011.06.01 |
| 申请号 | CN201020592168.3 | 申请日期 | 2010.10.29 |
| 申请人 | 北京京东方光电科技有限公司 | 发明人 | 徐斌 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01)I;G02F1/1333(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人 | 刘芳 |
| 主权项 | 一种基板处理设备，包括：多个传送轮，所述多个传送轮成排设置，用于传送玻璃基板；多个滑轨，设置于所述玻璃基板上方；多个喷嘴，设置于所述滑轨上，用于在所述滑轨上滑动，并向所述玻璃基板上喷淋液体；其特征在于，每排传送轮从所述玻璃基板的边缘至中部，直径依次递增，使所述玻璃基板表面呈中间高边缘低的弧形。 | ||
| 地址 | 100176 北京市经济技术开发区西环中路8号 | ||