发明名称 SEAMLESS EXPOSURE WITH PROJECTION SYSTEM COMPRISES ARRAY OF MICROMIRRORS WITH PREDEFINED REFLECTIVITY VARIATIONS
摘要
申请公布号 EP1963903(A4) 申请公布日期 2011.06.01
申请号 EP20060826583 申请日期 2006.10.24
申请人 ISHII, FUSAO 发明人 ISHII, FUSAO
分类号 G03F7/20;G02B26/00 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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