发明名称 涂敷装置
摘要 一种通过涂敷棒将涂敷液施加到一连续运行的支撑介质且适于进行高速涂敷的涂敷装置。涂敷棒(12C)具有一圆柱体,该圆柱体的外表面具有在涂敷棒的轴向方向上交替形成的宽度为P1的凸部和宽度为P2的凹部,以使一系列的凸部和凹部具有一恒定的齿距P=P1+P2。每个凸部具有一齿型截面,且具有一宽度P3为0.55P或更多的平坦部分,其形成于位于从齿型截面的顶部(T)向下3μm的齿型截面相对的右端部(R)与左端部(L)之间。
申请公布号 CN101394935B 申请公布日期 2011.06.01
申请号 CN200780007239.X 申请日期 2007.02.20
申请人 富士胶片株式会社 发明人 成瀬康人
分类号 B05C1/08(2006.01)I;B05C11/02(2006.01)I 主分类号 B05C1/08(2006.01)I
代理机构 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 代理人 张卫华
主权项 一种涂敷装置,用于通过一涂敷棒将涂敷液施加到一连续运行的支撑介质上,呈圆柱体的涂敷棒具有一外表面,其中宽度为P1的凸部和宽度为P2的凹部交替形成于该表面的轴向方向上,以形成具有一恒定齿距P=P1+P2的一系列的凸部和凹部,每个凸部具有一齿型截面,并且每个凸部包括一具有宽度为P3的平坦部分或一具有宽度为P4的平坦部分,宽度P3为从齿型截面的顶部T向下3μm的左端部与从齿型截面的顶部T向下3μm的右端部之间的距离,宽度P4为从齿型截面的顶部T向下d/10的左端部与从齿型截面的顶部T向下d/10的右端部之间的距离,其中,d是凸部的顶端与凹部的底端之间的高度差,选用P3和P4中的较小者,P3和P4中的较小者为大于等于0.57P且小于等于0.76P。
地址 日本东京都
您可能感兴趣的专利