超高速均匀等离子处理系统

摘要

一种用于等离子处理基片的设备。所述设备包括相互分隔放置的第一电极和第二电极。分隔环对所述第一电极和第二电极的相对面进行真空密封，以在其间限定可抽空的处理区。处理气口与所述真空区相通，以将处理气体引入所述处理区内。当所述第一电极和第二电极通电后，所述处理区可通过位于第一电极和第二电极中的某一个内的真空口而进行抽空，以在处理区中形成适当气压，并从处理气体中激发出等离子。

主权项

一种利用等离子对基片进行处理的设备，包括：第一电极；第二电极，该第二电极能够相对于所述第一电极在第一位置和第二位置之间移动，并且该第二位置用于将所述基片转移到所述设备和转移离开所述设备；分隔部件，该分隔部件在所述第一电极和所述第二电极之间形成侧壁，并且该分隔部件构造成用于当所述第二电极移动到所述第一位置时在所述第一电极和所述第二电极之间形成真空密封并且构造成在所述第一电极和第二电极之间形成可抽空的处理区，所述分隔部件包括绝缘材料，用于将所述第一电极和所述第二电极电绝缘；处理气体口，用于将处理气体引入所述处理区内；和真空口，用于将所述处理区抽空至一定压力，该压力适于从在所述处理区内的处理气体中生成等离子，导电外壳，其环绕所述分隔部件、所述第一电极和所述第二电极安置，所述第一电极和第二电极通过气隙而分别与所述导电外壳分隔。