发明名称 曝光头和图像形成装置
摘要 本发明提供一种曝光头和图像形成装置,其能够在将成像光学系统的像差抑制于较小程度的同时,确保足够的用于形成光点的光量,从而能够实现高精度的曝光。该曝光头的特征在于,具有:发光元件阵列,其具有配置在第1方向上的发光元件;遮光部件,其具有使发光元件发射的光通过的孔径光阑;成像光学系统,其对通过遮光部件的光进行成像,其中,成像光学系统在第1方向上的放大倍率的绝对值,在0.7倍以上且在0.8倍以下。
申请公布号 CN102081326A 申请公布日期 2011.06.01
申请号 CN201010563159.6 申请日期 2010.11.25
申请人 精工爱普生株式会社 发明人 宗和健;井熊健;小泉竜太;井上望
分类号 G03G15/043(2006.01)I;G03G15/04(2006.01)I;G03G15/00(2006.01)I;B41J2/447(2006.01)I 主分类号 G03G15/043(2006.01)I
代理机构 北京金信立方知识产权代理有限公司 11225 代理人 黄威;张彬
主权项 一种曝光头,其特征在于,具有:发光元件阵列,其具有被配置在第1方向上的发光元件;遮光部件,其具有使所述发光元件发射的光通过的孔径光阑;成像光学系统,其对通过所述遮光部件的光进行成像;其中,所述成像光学系统在所述第1方向上的放大倍率的绝对值在0.7倍以上且在0.8倍以下。
地址 日本东京