发明名称 |
曝光头和图像形成装置 |
摘要 |
本发明提供一种曝光头和图像形成装置,其能够在将成像光学系统的像差抑制于较小程度的同时,确保足够的用于形成光点的光量,从而能够实现高精度的曝光。该曝光头的特征在于,具有:发光元件阵列,其具有配置在第1方向上的发光元件;遮光部件,其具有使发光元件发射的光通过的孔径光阑;成像光学系统,其对通过遮光部件的光进行成像,其中,成像光学系统在第1方向上的放大倍率的绝对值,在0.7倍以上且在0.8倍以下。 |
申请公布号 |
CN102081326A |
申请公布日期 |
2011.06.01 |
申请号 |
CN201010563159.6 |
申请日期 |
2010.11.25 |
申请人 |
精工爱普生株式会社 |
发明人 |
宗和健;井熊健;小泉竜太;井上望 |
分类号 |
G03G15/043(2006.01)I;G03G15/04(2006.01)I;G03G15/00(2006.01)I;B41J2/447(2006.01)I |
主分类号 |
G03G15/043(2006.01)I |
代理机构 |
北京金信立方知识产权代理有限公司 11225 |
代理人 |
黄威;张彬 |
主权项 |
一种曝光头,其特征在于,具有:发光元件阵列,其具有被配置在第1方向上的发光元件;遮光部件,其具有使所述发光元件发射的光通过的孔径光阑;成像光学系统,其对通过所述遮光部件的光进行成像;其中,所述成像光学系统在所述第1方向上的放大倍率的绝对值在0.7倍以上且在0.8倍以下。 |
地址 |
日本东京 |