发明名称 |
用于化学气相沉积反应器的方法和设备 |
摘要 |
本发明的实施方案通常涉及化学气相沉积系统及相关的使用方法。在一个实施方案中,该系统包括:反应器盖组件,其具有主体;轨道组件,其具有主体和沿着主体设置的导引路径;及加热组件,其可操作为在基体沿着导引路径移动时加热基体。盖组件的主体和轨道组件的主体结合在一起,以形成配置为容纳基体的间隙。在另一实施方案中,使用所述化学气相沉积系统在基体上形成层的方法包括:将基体引入导引路径;当基体沿着导引路径移动时,在基体上沉积第一层和在基体上沉积第二层;及防止第一沉积步骤和第二沉积步骤之间的气体混合。 |
申请公布号 |
CN102084460A |
申请公布日期 |
2011.06.01 |
申请号 |
CN200980126036.1 |
申请日期 |
2009.05.29 |
申请人 |
奥塔装置公司 |
发明人 |
何甘;雷格·东克;凯思德·索拉布吉;罗杰·哈曼吉;安德瑞斯·海吉杜斯;美利莎·艾契尔;哈利·艾华特;斯图尔特·索南费尔特 |
分类号 |
H01L21/205(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/205(2006.01)I |
代理机构 |
北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 |
代理人 |
武晶晶;郑霞 |
主权项 |
一种化学气相沉积反应器,包括:盖组件,其具有主体;轨道组件,其具有主体和导引路径,所述导引路径沿着所述主体的纵轴设置,其中所述盖组件的所述主体和所述轨道组件的所述主体结合在一起,以在其间形成间隙,所述间隙配置为容纳基体;以及加热组件,其包括多个加热灯,所述加热灯沿着所述轨道组件配置,并可操作为在所述基体沿着所述导引路径移动时加热所述基体。 |
地址 |
美国加利福尼亚州 |