发明名称 用于化学气相沉积反应器的方法和设备
摘要 本发明的实施方案通常涉及化学气相沉积系统及相关的使用方法。在一个实施方案中,该系统包括:反应器盖组件,其具有主体;轨道组件,其具有主体和沿着主体设置的导引路径;及加热组件,其可操作为在基体沿着导引路径移动时加热基体。盖组件的主体和轨道组件的主体结合在一起,以形成配置为容纳基体的间隙。在另一实施方案中,使用所述化学气相沉积系统在基体上形成层的方法包括:将基体引入导引路径;当基体沿着导引路径移动时,在基体上沉积第一层和在基体上沉积第二层;及防止第一沉积步骤和第二沉积步骤之间的气体混合。
申请公布号 CN102084460A 申请公布日期 2011.06.01
申请号 CN200980126036.1 申请日期 2009.05.29
申请人 奥塔装置公司 发明人 何甘;雷格·东克;凯思德·索拉布吉;罗杰·哈曼吉;安德瑞斯·海吉杜斯;美利莎·艾契尔;哈利·艾华特;斯图尔特·索南费尔特
分类号 H01L21/205(2006.01)I 主分类号 H01L21/205(2006.01)I
代理机构 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 代理人 武晶晶;郑霞
主权项 一种化学气相沉积反应器,包括:盖组件,其具有主体;轨道组件,其具有主体和导引路径,所述导引路径沿着所述主体的纵轴设置,其中所述盖组件的所述主体和所述轨道组件的所述主体结合在一起,以在其间形成间隙,所述间隙配置为容纳基体;以及加热组件,其包括多个加热灯,所述加热灯沿着所述轨道组件配置,并可操作为在所述基体沿着所述导引路径移动时加热所述基体。
地址 美国加利福尼亚州