发明名称 带MOS电容的增益单元eDRAM单元、存储器及制备方法
摘要 本发明提供一种增益单元eDRAM单元、存储器及制备方法,属于嵌入式动态随机存储器(eDRAM)技术领域。该发明提供的增益单元eDRAM单元在存储节点处增加一个MOS电容,从而提高增益单元eDRAM单元的数据保持时间,降低刷新频率,减小由该增益单元eDRAM单元组成的存储器的功耗。同时由于所增加的MOS电容可以与标准MOS工艺兼容,因此具有制备成本低的特点。
申请公布号 CN102081963A 申请公布日期 2011.06.01
申请号 CN200910199382.4 申请日期 2009.11.26
申请人 复旦大学 发明人 林殷茵;董存霖;孟超;程宽;马亚楠;严冰
分类号 G11C11/401(2006.01)I;G11C11/409(2006.01)I;G11C11/4063(2006.01)I 主分类号 G11C11/401(2006.01)I
代理机构 上海正旦专利代理有限公司 31200 代理人 陆飞;盛志范
主权项 一种增益单元eDRAM单元,包括读MOS晶体管、写MOS晶体管、写字线、写位线、读字线、读位线以及存储节点处的等效寄生电容,其特征在于,还包括置于所述存储节点处的、用于增加增益单元eDRAM单元的存储电荷的MOS电容,所述MOS电容的制造与标准MOS工艺兼容。
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