发明名称 |
带MOS电容的增益单元eDRAM单元、存储器及制备方法 |
摘要 |
本发明提供一种增益单元eDRAM单元、存储器及制备方法,属于嵌入式动态随机存储器(eDRAM)技术领域。该发明提供的增益单元eDRAM单元在存储节点处增加一个MOS电容,从而提高增益单元eDRAM单元的数据保持时间,降低刷新频率,减小由该增益单元eDRAM单元组成的存储器的功耗。同时由于所增加的MOS电容可以与标准MOS工艺兼容,因此具有制备成本低的特点。 |
申请公布号 |
CN102081963A |
申请公布日期 |
2011.06.01 |
申请号 |
CN200910199382.4 |
申请日期 |
2009.11.26 |
申请人 |
复旦大学 |
发明人 |
林殷茵;董存霖;孟超;程宽;马亚楠;严冰 |
分类号 |
G11C11/401(2006.01)I;G11C11/409(2006.01)I;G11C11/4063(2006.01)I |
主分类号 |
G11C11/401(2006.01)I |
代理机构 |
上海正旦专利代理有限公司 31200 |
代理人 |
陆飞;盛志范 |
主权项 |
一种增益单元eDRAM单元,包括读MOS晶体管、写MOS晶体管、写字线、写位线、读字线、读位线以及存储节点处的等效寄生电容,其特征在于,还包括置于所述存储节点处的、用于增加增益单元eDRAM单元的存储电荷的MOS电容,所述MOS电容的制造与标准MOS工艺兼容。 |
地址 |
200433 上海市邯郸路220号 |