发明名称 一种MEMS器件及其圆片级真空封装方法
摘要 一种MEMS器件及其圆片级真空封装方法,由玻璃基片(1)、带有密封环(2)的硅片敏感结构层和硅帽(9)组成,其特征在于:硅片敏感结构层中设有至少两个硅岛(11),每个硅岛(11)的下面与玻璃基片(1)以及电极引线(8)连接,每个硅岛(11)上面分别设有压焊点(6);硅帽上与每个硅岛对应位置分别设有一个压焊点空腔(7),使压焊点(6)处于压焊点空腔(7)内,压焊点空腔外围设有压焊点密封环(12)与硅岛上面连接配合,压焊点密封环外围设有压焊点隔离槽(5)。本发明的优点在于:避免了电极从衬底基板引入到器件结构层表面,对压焊点的密封结构与压焊点间的电隔离技术问题。使得本发明真空封装结构设计合理、工艺简单、真空保持时间长、性能可靠、具有通用性,降低了真空封装成本。
申请公布号 CN102079502A 申请公布日期 2011.06.01
申请号 CN201010571925.3 申请日期 2010.12.03
申请人 华东光电集成器件研究所 发明人 方澍;郭群英;徐栋;黄斌;陈博
分类号 B81B7/02(2006.01)I;B81B3/00(2006.01)I;B81C1/00(2006.01)I 主分类号 B81B7/02(2006.01)I
代理机构 安徽省蚌埠博源专利商标事务所 34113 代理人 杨晋弘
主权项 一种MEMS器件,由玻璃基片(1)、带有密封环(2)的硅片敏感结构层和硅帽(9)组成,其特征在于:硅片敏感结构层中设有至少两个硅岛(11),每个硅岛(11与敏感结构层其它部件相互孤立并绝缘,每个硅岛(11)的下面分别与玻璃基片(1)以及设置在玻璃基片上的一条电极引线(8)连接,每个硅岛(11)上面分别设有压焊点(6);硅帽上与每个硅岛对应位置分别设有一个压焊点空腔(7),使压焊点(6)处于压焊点空腔(7)内,压焊点空腔外围设有压焊点密封环(12)与硅岛上面连接配合,压焊点密封环外围设有压焊点隔离槽(5)。
地址 233042 安徽省蚌埠市蚌山区财院路10号