涂敷处理装置

摘要

防止异物引起问题的同时，防止处理液附着到基板的涂敷对象外的区域。在狭缝涂敷机中，在狭缝喷嘴的行进方向侧，设置用于排除异物的保护构件。在开始涂敷处理时，狭缝喷嘴从基板的正上方外部水平移动到应开始涂敷处理的开始位置。此时，在喷出口的位置从基板的正上方外部到基板的端部时，使喷出口高度为与涂敷处理相同的基准高度(步骤S11～S13)。另一方面，在喷出口的位置从基板的端部到开始位置时，使喷出口高度高于基准高度(步骤S14～S16)。因此，能够防止处理液附着到基板的涂敷对象外的区域。另外，由于保护构件的下端由两个板构成，所以即使是在上升中前方的板接触不到的异物，后方的板也会接触到。

主权项

一种涂敷处理装置，用于对保持水平的基板的涂敷对象区域涂敷处理液，该涂敷处理装置具有：喷嘴，其可以从沿着水平的第一方向延伸的狭缝状的喷出口喷出上述处理液；移动单元，其在与上述第一方向正交的水平的第二方向，使上述喷嘴相对上述基板从上述基板的正上方外部，相对移动到应开始喷出上述处理液的开始位置，进而使上述喷嘴相对上述基板在上述整个涂敷对象区域的上部进行相对移动，使上述喷嘴进行相对于上述涂敷对象区域的喷出扫描；保护构件，其沿着上述第一方向延伸，以下端的位置在上述喷出口的下端以下的方式，相对固定在上述喷嘴的上述喷出扫描中的行进的前方侧；调整单元，其对上述喷出口相对上述基板的相对高度进行调整；其特征在于，由上述保护构件的下端限定的上述第二方向的最大长度大于等于从上述基板的端部到上述开始位置的长度，在上述喷出口的位置从上述基板的正上方外部到上述基板的端部时，上述调整单元使上述喷出口的相对高度为与上述喷出扫描时相同的基准高度，在上述喷出口的位置从上述基板的端部到上述开始位置时，上述调整单元使上述喷出口的相对高度高于上述基准高度。