光刻设备及器件制造方法

摘要

本发明公开了一种光刻设备和器件制造方法。所述光刻设备包括相位调整器以在衬底上曝光图案期间调整横穿相位调整器的光学元件的光波的相位。所述光学元件可以是光刻设备的投影系统中的热量可控的光学元件。在使用时，用包括离轴辐射束的照射模式照射所述图案。所述束被衍射成许多个第一级衍射束，一个与图案中沿第一方向的第一节距相关，另一个与图案中沿不同的第二方向的第二节距相关。辨识与第一节距相关的第一级衍射束横穿光学元件的区域。通过计算与其它第一级衍射束的光学相位相关的所述第一级衍射束的所需的光学相位来优化所述图案的图像的图像特性。所述相位调整器被控制以施加所需的光学相位至所述第一级衍射束。

主权项

一种光刻设备，包括：照射系统，被配置以用包括从照射极射出且相对于光轴倾斜一角度的离轴辐射束的照射模式来调节辐射束；支撑件，被构造以支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束以形成图案化的辐射束，且还能够将所述离轴的辐射束衍射成与沿第一方向的图案的第一节距相关的第一第一级衍射束和与沿不同于第一方向的第二方向的图案的第二节距相关的第二第一级衍射束；投影系统，具有光瞳平面且被配置以将所述图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上；相位调整器，被构造且被设置以调整一辐射束的电场的相位，所述一辐射束横穿在所述光瞳平面中设置的所述相位调整器的光学元件；和控制器，被构造且被设置用于获取表示所述图案和照射模式的数据，用于辨识所述第一级衍射束在使用时横穿所述光瞳平面的区域，用于通过计算与所述第二第一级衍射束的光学相位相关的所述第一级衍射束的所需的光学相位来优化所述图案的图像的图像特性，用于将所述区域映射在所述光学元件的一部分上，以及用于将热量施加至所述部分或从所述部分提取热量以根据所需的光学相位改变所述光学元件的折射率。