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发明名称 A SEMICONDUCTOR WAFER WITH A HETEROEPITAXIAL LAYER AND A METHOD FOR PRODUCING THE WAFER
摘要
申请公布号 KR101037636(B1) 申请公布日期 2011.05.30
申请号 KR20090023112 申请日期 2009.03.18
申请人 发明人
分类号 H01L21/20 主分类号 H01L21/20
代理机构 代理人
主权项
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