发明名称 半导体滤波器结构和制造方法
摘要 在一实施例中,一种传导类型的分裂阱区域在对立传导类型的半导体基底中形成。该分裂阱区域形成浮动电容器的一个板片和瞬态电压抑制器件的一个电极。
申请公布号 CN101090261B 申请公布日期 2011.05.25
申请号 CN200710110042.0 申请日期 2007.06.12
申请人 半导体元件工业有限责任公司 发明人 萨德哈玛·沙斯特里;瑞安·赫尔利;闻叶廷;艾米利·M.·莱恩翰;马克·A.·托马斯;厄尔·D.·富克斯
分类号 H03H7/01(2006.01)I;H03H3/007(2006.01)I 主分类号 H03H7/01(2006.01)I
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人 康建忠
主权项 一种滤波器,包括:半导体基底,所述半导体基底为第一传导类型且具有第一掺杂浓度;覆盖于所述半导体基底而形成的半导体层,所述半导体层为第一传导类型且具有小于所述第一掺杂浓度的第二掺杂浓度,所述半导体层具有第一主表面;第一浮动电容器器件,所述第一浮动电容器器件毗连所述第一主表面而形成;和第一瞬态电压抑制器件,所述第一瞬态电压抑制器件毗连所述第一主表面而形成,其中,所述第一浮动电容器器件和所述第一瞬态电压抑制器件共享第二传导类型的第一掺杂区域,所述第一掺杂区域在所述半导体层中形成,且其中,所述第一掺杂区域在所述第一主表面终止以使所述第一浮动电容器器件覆盖所述半导体层的一部分及所述第一掺杂区域的一部分。
地址 美国亚利桑那