发明名称 | 一种工艺终点控制方法和装置 | ||
摘要 | 本发明实施例公开了一种工艺终点控制方法,搜索光谱信号中的波峰或平地,将所述搜到的波峰或平地作为拐点;所述波峰是指在其左右两侧连续一个以上的光谱信号强度均小于其自身强度的光谱信号;所述平地是指在其左侧连续一个以上的光谱信号强度均小于其自身强度,且其右侧连续一个以上的光谱信号强度只作符合要求的小幅波动的光谱信号;根据所述搜索到的拐点,确定所述光谱信号的工艺终点时间。本发明实施例同时公开了一种工艺终点控制装置。应用本发明实施例所述的方法和装置,能够准确方便地确定出较小暴露面积(Low Open Area)工艺的终点时间。 | ||
申请公布号 | CN101494160B | 申请公布日期 | 2011.05.25 |
申请号 | CN200810056599.5 | 申请日期 | 2008.01.22 |
申请人 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 发明人 | 张善贵 |
分类号 | H01L21/00(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/00(2006.01)I |
代理机构 | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人 | 王琦;王诚华 |
主权项 | 一种工艺终点控制方法,其特征在于,该方法包括:搜索光谱信号中的波峰或平地,将所述搜到的波峰或平地作为拐点;所述波峰是指在其左右两侧连续一个以上的光谱信号强度均小于其自身强度的光谱信号;所述平地是指在其左侧连续一个以上的光谱信号强度均小于其自身强度,且其右侧连续一个以上的光谱信号强度只作符合要求的小幅波动的光谱信号;根据所述搜索到的拐点,得到所述光谱信号的工艺终点时间,包括:当所述搜索到的拐点为波峰时,紧邻所述拐点对应的时间点之后设置一满意时间;判断所述满意时间内各时间点对应的光谱信号强度是否均小于所述拐点的强度,如果是,则将所述拐点对应的时间点加上所述满意时间后对应的时间点作为所述光谱信号的工艺终点时间;当所述搜索到拐点为平地时,紧邻所述拐点对应的时间点之后设置一满意时间;判断所述满意时间内各时间点对应的光谱信号强度是否均作符合要求的小幅波动,如果是,则将所述拐点对应的时间点加上所述满意时间后对应的时间点作为所述光谱信号的工艺终点时间。 | ||
地址 | 100016 北京市朝阳区酒仙桥东路1号 |