发明名称 |
通过螺旋位错持续生长形成纳米结构层 |
摘要 |
本文描述了薄膜层的纳米结构化支承元件的长度伸展工艺。所述工艺涉及第一退火步骤期间纳米结构化支承元件的初始形成。在所述纳米结构化支承元件上沉积材料涂层。在第二退火步骤期间,所述初始形成的纳米结构化支承元件纵向伸展。较长的纳米结构化支承元件提供了更大的支承催化剂材料的表面积,从而允许在所述层上填塞更多的催化剂。具有延伸的纳米结构化支承元件的层尤其可用于电化学装置(诸如燃料电池),其中催化剂活性与支承所述催化剂的可用表面积相关。 |
申请公布号 |
CN101263621B |
申请公布日期 |
2011.05.25 |
申请号 |
CN200680033622.8 |
申请日期 |
2006.09.07 |
申请人 |
3M创新有限公司 |
发明人 |
马克·K·德贝;雷蒙德·J·齐格勒;苏珊·M·亨德里克斯 |
分类号 |
H01M4/88(2006.01)I;H01M4/92(2006.01)I;H01M8/10(2006.01)I;B01J31/00(2006.01)I |
主分类号 |
H01M4/88(2006.01)I |
代理机构 |
中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 |
代理人 |
郇春艳;郭国清 |
主权项 |
一种涉及形成纳米结构化支承元件的方法,所述方法包括:在基底上沉积材料的第一层;使所述第一层退火以形成所述纳米结构化支承元件层;在所述纳米结构化支承元件上沉积所述材料的第二层;以及使所述第二层退火以纵向延伸所述纳米结构化支承元件,其中对所述第一层的沉积通过气相沉积进行,且其中所述第一层是有机颜料层。 |
地址 |
美国明尼苏达州 |