| 发明名称 | 光学用层合薄膜 | ||
| 摘要 | 本发明提供光学用层合薄膜，该光学用层合薄膜含有光扩散层和设置于其上的防粘连层，其特征在于：防粘连层是含有聚酯和填料的双轴取向的层，实质上不含有孔隙，其表面粗糙度Rz为400-5000nm，光扩散层含有比防粘连层的聚酯的熔点低5-50℃的聚酯以及光扩散成分，通过该光学用层合薄膜，可以提供亮度不均匀少、具备光扩散性、组装到背光单元时与相邻部件的结块得到抑制的光学用层合薄膜。 | ||
| 申请公布号 | CN102077122A | 申请公布日期 | 2011.05.25 |
| 申请号 | CN200980125222.3 | 申请日期 | 2009.10.26 |
| 申请人 | 帝人杜邦薄膜日本有限公司 | 发明人 | 渡部誉之;羽田正纪;矢野真司;久保耕司 |
| 分类号 | G02B5/02(2006.01)I;F21S2/00(2006.01)I;F21V3/00(2006.01)I;F21V3/04(2006.01)I;G02F1/1335(2006.01)I | 主分类号 | G02B5/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 孙秀武;高旭轶 |
| 主权项 | 光学用层合薄膜，该光学用层合薄膜含有光扩散层以及设置于其上的防粘连层，其特征在于：防粘连层是含有聚酯和填料的双轴取向的层，实质上不含有孔隙，其表面粗糙度Rz为400‑5000 nm，光扩散层含有比防粘连层的聚酯的熔点低5‑50℃的聚酯以及光扩散成分。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||